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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第164位 327件
(2016年:第168位 259件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第171位 186件
(2016年:第160位 223件)
(ランキング更新日:2025年3月3日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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再表 2014-196396 | 着色組成物、着色硬化膜及び表示素子 | 2017年 2月23日 | |
再表 2014-199800 | 樹脂組成物、感光性樹脂組成物、絶縁膜およびその製法ならびに電子部品 | 2017年 2月23日 | |
再表 2014-199913 | 共重合体の製造方法 | 2017年 2月23日 | |
再表 2014-203767 | 蓄電デバイス用組成物、蓄電デバイス用スラリー、蓄電デバイス電極およびその製造方法、保護膜およびその製造方法、ならびに蓄電デバイス | 2017年 2月23日 | |
再表 2014-208324 | 膜形成用組成物、レジスト下層膜及びその形成方法、パターン形成方法並びに化合物 | 2017年 2月23日 | |
特開 2017-40721 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶配向膜の製造方法、液晶表示素子、重合体及び化合物 | 2017年 2月23日 | |
特開 2017-40722 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶表示素子、重合体及び酸二無水物 | 2017年 2月23日 | |
再表 2014-141979 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、感放射線性酸発生剤及び化合物 | 2017年 2月16日 | |
再表 2014-148241 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物の製造方法 | 2017年 2月16日 | |
再表 2014-148323 | 1,3−ブタジエンの製造方法 | 2017年 2月16日 | |
再表 2014-156374 | 多層レジストプロセス用無機膜形成組成物及びパターン形成方法 | 2017年 2月16日 | |
再表 2014-156892 | 電極活物質、電極及び蓄電デバイス | 2017年 2月16日 | |
再表 2014-156910 | 組成物、パターンが形成された基板の製造方法、膜及びその形成方法並びに化合物 | 2017年 2月16日 | |
再表 2014-157389 | 電解質膜用組成物、固体高分子電解質膜、該電解質膜の製造方法、膜−電極接合体、固体高分子型燃料電池、水電解セルおよび水電解装置 | 2017年 2月16日 | |
再表 2014-157715 | 蓄電デバイス用バインダー組成物 | 2017年 2月16日 |
331 件中 271-285 件を表示
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2014-196396 2014-199800 2014-199913 2014-203767 2014-208324 2017-40721 2017-40722 2014-141979 2014-148241 2014-148323 2014-156374 2014-156892 2014-156910 2014-157389 2014-157715
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特許制度に詳しい方にこそ知って欲しい意匠権の使い方 ~コスパの高い意匠権を使って事業を守る方法を、特許権と比較して解説~
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