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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第226位 193件
(2017年:第164位 327件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第171位 176件
(2017年:第171位 186件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6318742 | ポジ型感光性樹脂組成物 | 2018年 5月 9日 | |
特許 6318937 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 | 2018年 5月 9日 | |
特許 6318957 | 感放射線性樹脂組成物、硬化膜及びその形成方法、並びに表示素子 | 2018年 5月 9日 | |
特許 6319001 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 | 2018年 5月 9日 | |
特許 6319291 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、感放射線性酸発生剤及び化合物 | 2018年 5月 9日 | |
特許 6314488 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶表示素子、位相差フィルム及び位相差フィルムの製造方法 | 2018年 4月25日 | |
特許 6314537 | 重合体、樹脂組成物、樹脂ペレット及び樹脂成形体 | 2018年 4月25日 | |
特許 6315182 | 液晶配向剤および液晶表示素子 | 2018年 4月25日 | |
特許 6315193 | 液晶配向剤 | 2018年 4月25日 | |
特許 6311343 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶表示素子、液晶配向膜の製造方法、位相差フィルム及び位相差フィルムの製造方法 | 2018年 4月18日 | |
特許 6311702 | 多層レジストプロセス用無機膜形成組成物及びパターン形成方法 | 2018年 4月18日 | |
特許 6311703 | 組成物、パターンが形成された基板の製造方法、並びに膜及びその形成方法 | 2018年 4月18日 | |
特許 6311870 | 液晶表示素子の製造方法 | 2018年 4月18日 | |
特許 6308058 | 被覆電線用封止材 | 2018年 4月11日 | |
特許 6303549 | ネガ型感放射線性樹脂組成物、表示素子用硬化膜、表示素子用硬化膜の形成方法及び表示素子 | 2018年 4月 4日 |
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6318742 6318937 6318957 6319001 6319291 6314488 6314537 6315182 6315193 6311343 6311702 6311703 6311870 6308058 6303549
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