ソイテック
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第1978位 11件
（
2015年：第5202位 3件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第2650位 6件
（
2015年：第1611位 11件）
（ランキング更新日：2024年9月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ソイテックの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2016-192548 | 厚さが均一な埋め込み誘電体層を有する構造を作成するためのプロセス | 2016年11月10日 | |
| 特表 2016-533034 | 電磁照射によって基板から構造を分離するための、処理、スタック、およびアセンブリ | 2016年10月20日 | |
| 特表 2016-527717 | デバイスを位置決めするための方法 | 2016年 9月 8日 | |
| 特表 2016-526786 | 複数の構造体を製造するための方法 | 2016年 9月 5日 | |
| 特表 2016-526796 | 複合構造物を製造する方法 | 2016年 9月 5日 | |
| 特表 2016-522584 | 回路の層を転写するための方法 | 2016年 7月28日 | |
| 特表 2016-519897 | 改良型の熱補償形表面弾性波デバイスおよび製造方法 | 2016年 7月 7日 | |
| 特表 2016-519431 | 複合構造の製造方法 | 2016年 6月30日 | |
| 特表 2016-519432 | 二酸化ケイ素層を分解する方法 | 2016年 6月30日 | |
| 特開 2016-111365 | 層転写プロセス | 2016年 6月20日 | |
| 特開 2016-103637 | ２枚の基板を積層する方法 | 2016年 6月 2日 |
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2016-192548 2016-533034 2016-527717 2016-526786 2016-526796 2016-522584 2016-519897 2016-519431 2016-519432 2016-111365 2016-103637
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点（米国・欧州（EPC)・中国）～米国ならびに EPC （欧州特許条約）・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します～
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