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トーキョー　エレクトロン　ユーエス　ホールディングス，インコーポレーテッド

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トーキョー　エレクトロン　ユーエス　ホールディングス，インコーポレーテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2017-528910	マイクロエレクトロニクス基板上のドライハードマスク除去のための方法	2017年 9月28日
特表 2017-526181	基板処理方法	2017年 9月 7日
特表 2017-523592	フォトレジスト分注システムにおける増加した再循環及び濾過のための方法及び装置	2017年 8月17日
特表 2017-521715	ネガティブトーン現像剤相溶性フォトレジスト組成物及び使用方法	2017年 8月 3日
特表 2017-520938	不動態化を使用する銅の異方性エッチング	2017年 7月27日
特表 2017-519364	有機化合物ガス環境中でのＣｕ含有層の中性ビームエッチング	2017年 7月13日
特表 2017-516310	フレキシブルなナノ構造の乾燥を改善するための方法及びシステム	2017年 6月15日
特表 2017-513233	基板の複数の接触開口をパターニングする方法	2017年 5月25日
特表 2017-512319	光増感化学増幅レジスト内の光増感剤濃度の測定メトロロジー	2017年 5月18日
特表 2017-508616	スピンコーティングにおける欠陥制御のためのカバープレート	2017年 3月30日
特表 2017-507372	現像可能な底部反射防止コーティングおよび着色インプラントレジストのための化学増幅方法および技術	2017年 3月16日
特表 2017-507371	感光性化学増幅レジスト化学物質およびプロセスを使用する方法および技術	2017年 3月16日
特表 2017-507360	光増感化学増幅レジストで酸ショットノイズとして複製されるＥＵＶショットノイズの軽減	2017年 3月16日
特表 2017-506838	フォトレジストディスペンスシステムのためのアクティブフィルタ技術	2017年 3月 9日
特表 2017-506428	原子層堆積を用いずに自己整合ダブルパターニングを行う方法	2017年 3月 2日

21 件中 1-15 件を表示

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2017-528910 2017-526181 2017-523592 2017-521715 2017-520938 2017-519364 2017-516310 2017-513233 2017-512319 2017-508616 2017-507372 2017-507371 2017-507360 2017-506838 2017-506428

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