株式会社サイオクス
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第779位 36件
（
2019年：第912位 32件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第1115位 17件
（2019年：第1357位 13件）
（ランキング更新日：2025年5月8日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社サイオクスの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2020-96164 | 構造体の製造方法と製造装置、および光照射装置 | 2020年 6月18日 | |
| 特開 2020-75837 | 窒化物半導体基板の製造方法、窒化物半導体基板および積層構造体 | 2020年 5月21日 | |
| 特開 2020-75850 | 窒化物半導体基板の製造方法 | 2020年 5月21日 | |
| 特開 2020-70229 | 窒化物半導体基板の製造方法、窒化物半導体基板および積層構造体 | 2020年 5月 7日 | |
| 特開 2020-70230 | 窒化物半導体基板 | 2020年 5月 7日 | |
| 特開 2020-68371 | 構造体の製造方法および構造体の製造装置 | 2020年 4月30日 | |
| 特開 2020-68385 | 構造体の製造方法および構造体の製造装置 | 2020年 4月30日 | |
| 特開 2020-65011 | 構造体の製造方法および構造体の製造装置 | 2020年 4月23日 | |
| 特開 2020-33210 | 窒化物半導体基板の製造方法、窒化物半導体基板および積層構造体 | 2020年 3月 5日 | |
| 特開 2020-33211 | 窒化物半導体基板の製造方法、窒化物半導体基板および積層構造体 | 2020年 3月 5日 | |
| 特開 2020-33212 | 窒化物半導体基板、窒化物半導体基板の製造方法および積層構造体 | 2020年 3月 5日 | |
| 特開 2020-33252 | 窒化物半導体基板 | 2020年 3月 5日 | |
| 特開 2020-33253 | 窒化物半導体基板 | 2020年 3月 5日 | |
| 特開 2020-33254 | 窒化物半導体基板 | 2020年 3月 5日 | |
| 特開 2020-35980 | エピタキシャル基板 | 2020年 3月 5日 |
36 件中 16-30 件を表示
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2020-96164 2020-75837 2020-75850 2020-70229 2020-70230 2020-68371 2020-68385 2020-65011 2020-33210 2020-33211 2020-33212 2020-33252 2020-33253 2020-33254 2020-35980
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