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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第2921位 7件
(2016年:第3099位 6件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第3281位 4件
(2016年:第4304位 3件)
(ランキング更新日:2025年5月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2017-222014 | ティーチング装置 | 2017年12月21日 | |
特開 2017-220569 | 基板処理装置 | 2017年12月14日 | |
特開 2017-204549 | 半導体基板およびその製造方法 | 2017年11月16日 | |
特開 2017-183495 | 基板処理装置 | 2017年10月 5日 | |
特開 2017-136517 | プラズマ洗浄装置およびプラズマ洗浄方法 | 2017年 8月10日 | |
特開 2017-92201 | 基板処理装置 | 2017年 5月25日 | |
特開 2017-92309 | 基板のアライメント装置 | 2017年 5月25日 |
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2017-222014 2017-220569 2017-204549 2017-183495 2017-136517 2017-92201 2017-92309
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5月20日(火) -
5月21日(水) - 東京 港区
5月21日(水) - 東京 大田区
5月22日(木) - 東京 港区
5月22日(木) -
5月23日(金) - 東京 千代田区
5月23日(金) - 大阪 大阪市
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