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株式会社ブイ・テクノロジー

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  2017年 出願公開件数ランキング    第982位 31件 下降2016年:第893位 32件)

  2017年 特許取得件数ランキング    第678位 35件 下降2016年:第453位 63件)

(ランキング更新日:2025年12月5日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2017-102074 検査装置 2017年 6月 8日
特開 2017-90163 放射線画像撮像素子 2017年 5月25日
特開 2017-90164 放射線画像撮像素子及び放射線画像撮像素子の製造方法 2017年 5月25日
特開 2017-82313 成膜マスクの製造方法 2017年 5月18日
特開 2017-83218 X線撮像素子の製造方法 2017年 5月18日
特開 2017-83545 偏光光照射装置及び偏光光照射方法 2017年 5月18日
特開 2017-83546 光照射装置 2017年 5月18日
特開 2017-67681 放射線画像撮影装置 2017年 4月 6日
特開 2017-62210 放射線画像撮影装置 2017年 3月30日
特開 2017-44917 光配向処理装置 2017年 3月 2日
特開 2017-41339 有機EL表示装置およびその製造方法 2017年 2月23日
特開 2017-37336 露光装置用光照射装置及びその点灯制御方法 2017年 2月16日
特開 2017-33903 有機EL素子の製造方法 2017年 2月 9日
特開 2017-14582 成膜マスクの製造方法及びその製造装置 2017年 1月19日
特開 2017-8342 成膜マスク及び成膜マスクの製造方法 2017年 1月12日

31 件中 16-30 件を表示

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2017-102074 2017-90163 2017-90164 2017-82313 2017-83218 2017-83545 2017-83546 2017-67681 2017-62210 2017-44917 2017-41339 2017-37336 2017-33903 2017-14582 2017-8342

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