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■ 2011年 出願公開件数ランキング 件
(
2010年: 件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 件
(
2010年: 件)
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| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2011-249607 | レーザアニール方法及び装置 | 2011年12月 8日 | |
| 特開 2011-230159 | レーザ加工装置 | 2011年11月17日 | |
| 特開 2011-233597 | レーザアニール方法、装置及びマイクロレンズアレイ | 2011年11月17日 | |
| 特開 2011-232398 | 配向処理方法及び配向処理装置 | 2011年11月17日 | |
| 特開 2011-233591 | 光学ガラスロッド、光学ガラスロッドの製造方法及びレーザ発生装置 | 2011年11月17日 | |
| 特開 2011-228564 | Qスイッチレーザ発光装置並びにレーザアニール方法及び装置 | 2011年11月10日 | |
| 特開 2011-221241 | 露光方法及び露光装置 | 2011年11月 4日 | |
| 特開 2011-194405 | レーザー加工装置 | 2011年10月 6日 | |
| 特開 2011-175213 | レーザ照射装置 | 2011年 9月 8日 | |
| 特開 2011-161534 | 研磨ヘッド及び研磨装置 | 2011年 8月25日 | |
| 特開 2011-161454 | レーザ加工装置 | 2011年 8月25日 | |
| 特開 2011-131124 | 薬液塗布装置及び薬液塗布方法 | 2011年 7月 7日 | |
| 特開 2011-134760 | 露光装置 | 2011年 7月 7日 | |
| 特開 2011-134768 | フォトマスク | 2011年 7月 7日 | |
| 特開 2011-134767 | 露光装置 | 2011年 7月 7日 |
29 件中 1-15 件を表示
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2011-249607 2011-230159 2011-233597 2011-232398 2011-233591 2011-228564 2011-221241 2011-194405 2011-175213 2011-161534 2011-161454 2011-131124 2011-134760 2011-134768 2011-134767
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10月14日(水) - オンライン
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企業の知財部員がすべき「知財実務手順の対応」 ~特許出願から明細書作成のノウハウ及び先行技術調査の基礎、特許権侵害の実務対応~
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10月23日(金) - 大阪 大阪市
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10月19日(月) - 大阪 中央区
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