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株式会社ブイ・テクノロジー

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 ■ 2011年 出願公開件数ランキング     件 (変わらず2010年: 件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2011-249607 レーザアニール方法及び装置 2011年12月 8日
特開 2011-230159 レーザ加工装置 2011年11月17日
特開 2011-233597 レーザアニール方法、装置及びマイクロレンズアレイ 2011年11月17日
特開 2011-232398 配向処理方法及び配向処理装置 2011年11月17日
特開 2011-233591 光学ガラスロッド、光学ガラスロッドの製造方法及びレーザ発生装置 2011年11月17日
特開 2011-228564 Qスイッチレーザ発光装置並びにレーザアニール方法及び装置 2011年11月10日
特開 2011-221241 露光方法及び露光装置 2011年11月 4日
特開 2011-194405 レーザー加工装置 2011年10月 6日
特開 2011-175213 レーザ照射装置 2011年 9月 8日
特開 2011-161534 研磨ヘッド及び研磨装置 2011年 8月25日
特開 2011-161454 レーザ加工装置 2011年 8月25日
特開 2011-131124 薬液塗布装置及び薬液塗布方法 2011年 7月 7日
特開 2011-134760 露光装置 2011年 7月 7日
特開 2011-134768 フォトマスク 2011年 7月 7日
特開 2011-134767 露光装置 2011年 7月 7日

29 件中 1-15 件を表示

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2011-249607 2011-230159 2011-233597 2011-232398 2011-233591 2011-228564 2011-221241 2011-194405 2011-175213 2011-161534 2011-161454 2011-131124 2011-134760 2011-134768 2011-134767

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