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株式会社ブイ・テクノロジー
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第745位 40件
（
2020年：第620位 49件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第1853位 9件
（2020年：第1077位 18件）
（ランキング更新日：2025年1月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ブイ・テクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2021-192934 | 研磨装置、研磨方法及びカセット | 2021年12月23日 | |
| 特開 2021-193429 | 露光用の光源装置、照明装置、露光装置、及び露光方法 | 2021年12月23日 | |
| 特開 2021-179592 | テンション計測装置とテンション計測方法 | 2021年11月18日 | |
| 特開 2021-180221 | 部品実装装置及び部品実装方法 | 2021年11月18日 | |
| 特開 2021-169102 | レーザリフトオフ装置及びレーザリフトオフ方法 | 2021年10月28日 | |
| 特開 2021-165424 | 蒸着マスク用フレーム、フレーム付き蒸着マスク、及び蒸着方法 | 2021年10月14日 | |
| 特開 2021-148868 | リペア用テープ、そのリペア用テープの製造装置及び製造方法 | 2021年 9月27日 | |
| 特開 2021-143360 | 蒸着源ユニット、蒸着源、及び蒸着源用ノズル | 2021年 9月24日 | |
| 特開 2021-144112 | 偏光光照射装置 | 2021年 9月24日 | |
| 特開 2021-128097 | 欠陥検出装置、欠陥検出方法、欠陥修正装置 | 2021年 9月 2日 | |
| 特開 2021-124523 | パターン露光装置及びパターン露光方法 | 2021年 8月30日 | |
| 特開 2021-124548 | パターン露光装置及びパターン露光方法 | 2021年 8月30日 | |
| 特開 2021-117326 | レンズアレイ、ＬＥＤ照明ユニット、露光装置、及び露光方法 | 2021年 8月10日 | |
| 特開 2021-118319 | 基板保持装置 | 2021年 8月10日 | |
| 再表 2020-13122 | レーザ加工装置、レーザ加工方法及び成膜マスクの製造方法 | 2021年 8月 2日 |
41 件中 1-15 件を表示
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2021-192934 2021-193429 2021-179592 2021-180221 2021-169102 2021-165424 2021-148868 2021-143360 2021-144112 2021-128097 2021-124523 2021-124548 2021-117326 2021-118319 2020-13122
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