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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第755位 38件
(2017年:第982位 31件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第1328位 14件
(2017年:第678位 35件)
(ランキング更新日:2025年2月17日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2018-205456 | フルカラーLED表示パネル | 2018年12月27日 | |
特開 2018-195675 | レーザアニール装置及びレーザアニール方法 | 2018年12月 6日 | |
特開 2018-195676 | レーザアニール装置及びレーザアニール方法 | 2018年12月 6日 | |
特開 2018-180367 | 光照射装置 | 2018年11月15日 | |
特開 2018-165793 | 近接露光方法及び近接露光装置 | 2018年10月25日 | |
特開 2018-144052 | レーザリフトオフ装置及びレーザリフトオフ方法 | 2018年 9月20日 | |
特開 2018-146826 | 基板修正装置 | 2018年 9月20日 | |
特開 2018-137302 | レーザ照射装置、薄膜トランジスタの製造方法およびプログラム | 2018年 8月30日 | |
特開 2018-133417 | レーザ照明装置及びラインビームレーザ照射装置 | 2018年 8月23日 | |
特開 2018-120106 | 偏光光照射装置及び偏光光照射方法 | 2018年 8月 2日 | |
特開 2018-117060 | 剥離基板及びレーザリフトオフ方法 | 2018年 7月26日 | |
特開 2018-111855 | 配線修正装置および配線修正方法 | 2018年 7月19日 | |
特開 2018-110139 | 半導体装置 | 2018年 7月12日 | |
特開 2018-107403 | レーザ照射装置、薄膜トランジスタおよび薄膜トランジスタの製造方法 | 2018年 7月 5日 | |
特開 2018-94582 | レーザ加工装置及びレーザ加工方法 | 2018年 6月21日 |
39 件中 1-15 件を表示
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2018-205456 2018-195675 2018-195676 2018-180367 2018-165793 2018-144052 2018-146826 2018-137302 2018-133417 2018-120106 2018-117060 2018-111855 2018-110139 2018-107403 2018-94582
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2月17日(月) - 大阪 大阪市
(オンライン参加可)体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする?~海外で商標権がバッティング?オープンファクトリーの知財リスク?~
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2月19日(水) -
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2月20日(木) -
2月20日(木) -
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パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
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(オンライン参加可)体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする?~海外で商標権がバッティング?オープンファクトリーの知財リスク?~
2月25日(火) -
2月25日(火) -
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