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株式会社ブイ・テクノロジー
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第891位 30件
（
2016年：第865位 32件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第678位 35件
（2016年：第453位 63件）
（ランキング更新日：2026年10月19日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ブイ・テクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6241061 | 形状計測装置 | 2017年12月 6日 | |
| 特許 6240960 | 成膜マスクの製造方法及び成膜マスク | 2017年12月 6日 | |
| 特許 6221088 | レーザアニール装置及びレーザアニール方法 | 2017年11月 1日 | |
| 特許 6206997 | 露光装置用光照射装置及びその点灯制御方法 | 2017年10月 4日 | |
| 特許 6206945 | 走査露光装置及び走査露光方法 | 2017年10月 4日 | |
| 特許 6206944 | 光配向用偏光照射装置 | 2017年10月 4日 | |
| 特許 6194493 | 薄膜パターン形成方法 | 2017年 9月13日 | |
| 特許 6167358 | レーザアニール装置及びレーザアニール方法 | 2017年 7月26日 | |
| 特許 6168944 | 成膜マスク | 2017年 7月26日 | |
| 特許 6163376 | 成膜マスクの製造方法及び成膜マスク | 2017年 7月12日 | |
| 特許 6161188 | レーザ加工装置、レーザ加工方法 | 2017年 7月12日 | |
| 特許 6159203 | 印刷用マスク及びこのマスクを用いた印刷方法 | 2017年 7月 5日 | |
| 特許 6155669 | レーザリペア装置 | 2017年 7月 5日 | |
| 特許 6150043 | 露光装置 | 2017年 6月21日 | |
| 特許 6142450 | 密着露光装置及び密着露光方法 | 2017年 6月 7日 |
35 件中 1-15 件を表示
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6241061 6240960 6221088 6206997 6206945 6206944 6194493 6167358 6168944 6163376 6161188 6159203 6155669 6150043 6142450
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