特許ランキング - 出願人詳細情報 -

株式会社ブイ・テクノロジー

※ ログインすれば出願人(株式会社ブイ・テクノロジー)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2017年出願公開件数ランキング　　　第982位　31件（2016年：第893位　32件）

　■　2017年特許取得件数ランキング　　　第678位　35件（2016年：第453位　63件）

（ランキング更新日：2025年10月10日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

株式会社ブイ・テクノロジーの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2017-221969	レーザリフトオフ装置	2017年12月21日
特開 2017-219864	走査露光装置及び走査露光方法	2017年12月14日
再表 2016-133054	ペリクルフレーム把持装置及びペリクルフレーム把持方法	2017年11月30日
特開 2017-179591	成膜マスク、その製造方法及び成膜マスクのリペア方法	2017年10月 5日
特開 2017-181579	マスク製造装置及びマスク製造装置の制御方法	2017年10月 5日
特開 2017-168614	薄膜トランジスタの製造方法及びその製造方法に使用するマスク	2017年 9月21日
特開 2017-162871	マスク製造装置	2017年 9月14日
特開 2017-151168	偏光子ユニット、偏光光照射装置及び偏光子ユニットのガス充填方法	2017年 8月31日
特開 2017-151259	露光用照明装置、露光装置及び露光方法	2017年 8月31日
特開 2017-151405	偏光光照射装置	2017年 8月31日
特開 2017-152498	レーザアニール方法、レーザアニール装置及び薄膜トランジスタ基板	2017年 8月31日
特開 2017-136241	Ｘ線撮像素子の製造方法	2017年 8月10日
特開 2017-138140	放射線検出装置の製造方法	2017年 8月10日
特開 2017-135318	配線基板の配線修正装置、配線基板の製造方法、配線基板、および表示装置	2017年 8月 3日
特開 2017-129500	位相シフト量測定装置	2017年 7月27日

31 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2017-221969 2017-219864 2016-133054 2017-179591 2017-181579 2017-168614 2017-162871 2017-151168 2017-151259 2017-151405 2017-152498 2017-136241 2017-138140 2017-135318 2017-129500

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社ブイ・テクノロジーの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数