ホーム > 特許ランキング > 株式会社ブイ・テクノロジー > 2023年 > 出願公開一覧
※ ログインすれば出願人(株式会社ブイ・テクノロジー)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2023年 出願公開件数ランキング 第2343位 9件
(2022年:第964位 27件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第1732位 11件
(2022年:第1537位 13件)
(ランキング更新日:2025年3月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2023-167995
![]() |
試験回路、および半導体試験装置 | 2023年11月24日 | |
特開 2023-160543
![]() |
反射型マスクブランクの製造方法、反射型マスクブランク、および集束イオンビーム加工装置 | 2023年11月 2日 | |
特開 2023-153432
![]() |
レーザ加工装置及びレーザ加工方法 | 2023年10月18日 | |
特開 2023-153433
![]() |
レーザ加工装置及びレーザ加工方法 | 2023年10月18日 | |
特開 2023-131583
![]() |
レーザアニール装置およびレーザアニール方法 | 2023年 9月22日 | |
特開 2023-113092
![]() |
光検査装置及び光検査方法 | 2023年 8月15日 | |
特開 2023-107415
![]() |
テンション計測装置及びテンション計測方法 | 2023年 8月 3日 | |
特開 2023-103783
![]() |
半導体試験装置 | 2023年 7月27日 | |
特開 2023-14664
![]() |
集束イオンビーム装置 | 2023年 1月31日 |
9 件中 1-9 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー (をクリックすると全て選択します)
2023-167995 2023-160543 2023-153432 2023-153433 2023-131583 2023-113092 2023-107415 2023-103783 2023-14664
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社ブイ・テクノロジーの知財の動向チェックに便利です。
4月1日(火) - 山口 山口市
4月1日(火) -
4月2日(水) -
4月2日(水) -
4月4日(金) -
4月1日(火) - 山口 山口市
〒450-0002 愛知県名古屋市中村区名駅三丁目13番24号 第一はせ川ビル6階 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
東京都千代田区岩本町2-19-9 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒102-0072 東京都千代田区飯田橋4-1-1 飯田橋ISビル8階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング