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株式会社ブイ・テクノロジー
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第608位 53件
（
2018年：第755位 38件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第771位 28件
（2018年：第1328位 14件）
（ランキング更新日：2024年11月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ブイ・テクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2019-83280 | レーザリフトオフによる加工方法及び平坦化治具 | 2019年 5月30日 | |
| 特開 2019-78685 | ＬＥＤチップの検査方法、その検査装置及びＬＥＤディスプレイの製造方法 | 2019年 5月23日 | |
| 特開 2019-79985 | 基板接続構造、基板実装方法及びマイクロＬＥＤディスプレイ | 2019年 5月23日 | |
| 特開 2019-66886 | 偏光光照射装置 | 2019年 4月25日 | |
| 特開 2019-59973 | 蒸着装置、有機ＥＬパネルの製造装置、有機ＥＬパネルの製造方法 | 2019年 4月18日 | |
| 特開 2019-62079 | レーザ照射装置、レーザ照射方法及び投影マスク | 2019年 4月18日 | |
| 特開 2019-56761 | パターン露光方法及びパターン露光装置 | 2019年 4月11日 | |
| 特開 2019-42762 | 蒸着マスクの製造方法及び加工マスク | 2019年 3月22日 | |
| 特開 2019-45771 | 露光装置 | 2019年 3月22日 | |
| 特開 2019-46910 | レーザアニール装置及びレーザアニール方法 | 2019年 3月22日 | |
| 特開 2019-47058 | 結晶化モニタ方法、レーザアニール装置、およびレーザアニール方法 | 2019年 3月22日 | |
| 特開 2019-35930 | 偏光光照射装置 | 2019年 3月 7日 | |
| 特開 2019-36597 | レーザ照射装置、投影マスク、レーザ照射方法およびプログラム | 2019年 3月 7日 | |
| 特開 2019-36635 | レーザ照射装置、薄膜トランジスタの製造方法、プログラムおよび投影マスク | 2019年 3月 7日 | |
| 特開 2019-36636 | レーザ照射装置、薄膜トランジスタの製造方法及び投影マスク | 2019年 3月 7日 |
53 件中 31-45 件を表示
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2019-83280 2019-78685 2019-79985 2019-66886 2019-59973 2019-62079 2019-56761 2019-42762 2019-45771 2019-46910 2019-47058 2019-35930 2019-36597 2019-36635 2019-36636
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