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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第710位 38件
(
2020年:第610位 46件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第1852位 9件
(
2020年:第1076位 18件)
(ランキング更新日:2026年10月28日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2021-111697 | 多結晶膜、多結晶膜の形成方法、レーザ結晶化装置、および半導体装置 | 2021年 8月 2日 | |
| 特開 2021-110678 | 表面分析方法、表面分析装置 | 2021年 8月 2日 | |
| 再表 2020-13122 | レーザ加工装置、レーザ加工方法及び成膜マスクの製造方法 | 2021年 8月 2日 | |
| 特開 2021-99419 | レーザ照射装置 | 2021年 7月 1日 | |
| 特開 2021-96300 | 露光装置 | 2021年 6月24日 | |
| 特開 2021-97081 | 光照射制御装置及び光照射制御方法 | 2021年 6月24日 | |
| 特開 2021-76630 | マイクロLEDディスプレイ及びその製造方法 | 2021年 5月20日 | |
| 特開 2021-75757 | アライメント装置 | 2021年 5月20日 | |
| 特開 2021-67876 | 発光ダイオード駆動回路及びその駆動方法 | 2021年 4月30日 | |
| 特開 2021-56386 | LED表示装置の製造方法及びLED表示装置 | 2021年 4月 8日 | |
| 特開 2021-55172 | 蒸着装置及び蒸着装置の制御方法 | 2021年 4月 8日 | |
| 特開 2021-47277 | 修正装置及び修正方法 | 2021年 3月25日 | |
| 特開 2021-45827 | 研磨装置 | 2021年 3月25日 | |
| 特開 2021-43343 | 近接露光装置用照明装置、近接露光装置及び近接露光装置の露光方法 | 2021年 3月18日 | |
| 特開 2021-32629 | 欠陥部認識装置及び欠陥部認識方法 | 2021年 3月 1日 |
39 件中 16-30 件を表示
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2021-111697 2021-110678 2020-13122 2021-99419 2021-96300 2021-97081 2021-76630 2021-75757 2021-67876 2021-56386 2021-55172 2021-47277 2021-45827 2021-43343 2021-32629
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