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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第820位 34件
(2017年:第664位 52件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第494位 51件
(2017年:第306位 94件)
(ランキング更新日:2025年5月8日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2018-518037 | 磁気トンネル接合、磁気トンネル接合を形成する際に使われる方法、および磁気トンネル接合を形成する方法 | 2018年 7月 5日 | |
特表 2018-517213 | メモリにおけるストライプマッピング | 2018年 6月28日 | |
特表 2018-517272 | 磁気トンネル接合の磁気電極を形成する方法および磁気トンネル接合を形成する方法 | 2018年 6月28日 | |
特表 2018-516450 | 磁気トンネル接合 | 2018年 6月21日 | |
特表 2018-516461 | 修正された電流分布を持つ半導体デバイス | 2018年 6月21日 | |
特表 2018-515922 | 磁気トンネル接合 | 2018年 6月14日 | |
特表 2018-515923 | 磁気トンネル接合 | 2018年 6月14日 | |
特表 2018-514892 | メモリアクセス動作中に、メモリの複数のメモリプレーンに同時にアクセスするための装置および方法 | 2018年 6月 7日 | |
特表 2018-512728 | 積層メモリアレイを含む構造体 | 2018年 5月17日 | |
特表 2018-510635 | 自己集合核酸を用いてナノ構造を形成する方法、及び自己集合核酸のナノ構造 | 2018年 4月19日 | |
特開 2018-61010 | 階段ステップ構造を含む半導体デバイス構造を形成する方法および関連する半導体デバイス | 2018年 4月12日 | |
特表 2018-508990 | 電子デバイス、メモリセル、および電流を流す方法 | 2018年 3月29日 | |
特開 2018-49915 | 半導体装置及びその製造方法 | 2018年 3月29日 | |
特表 2018-507560 | アンダーフィル収容キャビティを伴う半導体デバイス・アセンブリ | 2018年 3月15日 | |
特表 2018-506181 | 炭素を含む金属線を組み込む構造および炭素を含む金属線を形成する方法 | 2018年 3月 1日 |
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2018-518037 2018-517213 2018-517272 2018-516450 2018-516461 2018-515922 2018-515923 2018-514892 2018-512728 2018-510635 2018-61010 2018-508990 2018-49915 2018-507560 2018-506181
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5月14日(水) - 東京 港区
5月14日(水) -
5月15日(木) - 東京 港区
5月16日(金) - 東京 千代田区
5月16日(金) -
5月16日(金) - 東京 千代田区
5月16日(金) -
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