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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第2114位 10件
(
2019年:第1102位 25件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第951位 21件
(
2019年:第787位 27件)
(ランキング更新日:2025年12月12日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6673937 | 静電クランプ | 2020年 4月 1日 | |
| 特許 6668376 | プラズマ処理装置 | 2020年 3月18日 | |
| 特許 6664023 | イオン源の温度制御装置 | 2020年 3月13日 | |
| 特許 6666361 | イオン源筐体アセンブリ、イオン抽出システム、及びイオン抽出システムを改良する方法 | 2020年 3月13日 | |
| 特許 6656260 | 基板を処理するためにイオンビーム電流を制御する装置及び方法並びにイオン注入機 | 2020年 3月 4日 | |
| 特許 6646767 | 傍熱型陰極イオン源及びベルナス(BernAs)イオン源 | 2020年 2月14日 | |
| 特許 6644063 | シート形成装置、シートの厚さを測定するシステム及び材料の界面の位置を決定する方法 | 2020年 2月12日 |
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6673937 6668376 6664023 6666361 6656260 6646767 6644063
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【大阪会場】 前田知財塾 ~スキルアップ編~ 知財の仕事を、もっと深く、もっと面白く! 第2回 「特許権侵害判断・回避構造の検討」
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