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ヴァリアン セミコンダクター イクイップメント アソシエイツ インコーポレイテッド

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  2017年 出願公開件数ランキング    第1299位 22件 下降2016年:第944位 30件)

  2017年 特許取得件数ランキング    第1441位 13件 上昇2016年:第2650位 6件)

(ランキング更新日:2025年4月4日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 6250635 選択 電極調整アセンブリ及び電極を調整する方法 2017年12月20日
特許 6242820 選択 溶融体から水平リボンを成長させ、溶融体からの第1材料のリボンを形成する方法 2017年12月 6日
特許 6243916 選択 シャッターアセンブリを有するイオン源及びそれを備えるイオン注入装置 2017年12月 6日
特許 6234431 選択 基板処理用のイオン注入システム及び基板処理方法 2017年11月22日
特許 6236434 選択 複数注入のために基板を位置合わせするための装置および方法 2017年11月22日
特許 6194320 選択 電池用電極の処理方法 2017年 9月 6日
特許 6190818 選択 超伝導部材を保護するための技術 2017年 8月30日
特許 6186541 選択 タンデム加速器及びイオン注入システム 2017年 8月23日
特許 6165241 選択 ガリウムイオンを有するイオンビームを発生する方法及び装置 2017年 7月19日
特許 6139520 選択 磁気的閉じ込め及びファラデーシールド付き誘導結合型プラズマシステム並びに磁気的閉じ込め及びファラデーシールドを提供する方法 2017年 5月31日
特許 6122900 選択 フローティングシートの製造装置及び方法 2017年 4月26日
特許 6101266 選択 三次元イオン処理装置及び方法 2017年 3月22日
特許 6091490 選択 レジスト形状におけるクリティカルディメンション及びラフネスの制御方法及び制御システム 2017年 3月 8日

13 件中 1-13 件を表示

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6250635 6242820 6243916 6234431 6236434 6194320 6190818 6186541 6165241 6139520 6122900 6101266 6091490

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