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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第2162位 10件
(2020年:第2114位 10件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第664位 33件
(2020年:第951位 21件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6983796 | 基板を処理する方法 | 2021年12月22日 | |
特許 6976441 | イオンビームを制御する装置および方法 | 2021年12月 8日 | |
特許 6974453 | モジュール式相互リアクトルを有する故障電流リミッタ | 2021年12月 1日 | |
特許 6964716 | スキャン後の湾曲電極のイオン注入システムの装置 | 2021年11月10日 | |
特許 6960060 | イオン源の動的温度制御 | 2021年11月 5日 | |
特許 6948316 | 間接加熱陰極イオン源 | 2021年10月13日 | |
特許 6944949 | 電荷が中和されたイオンビームのための無線周波数抽出システム | 2021年10月 6日 | |
特許 6934080 | 熱絶縁電気接点プローブ及び加熱プラテンアセンブリ | 2021年 9月 8日 | |
特許 6928610 | イオンビーム装置内の汚染制御用の装置、システム及び方法 | 2021年 9月 1日 | |
特許 6920195 | 基板をアクティブに位置合わせするアクティブ基板位置合わせシステム及び方法 | 2021年 8月18日 | |
特許 6913678 | ビーム電流動作の広い範囲におけるイオンビームの制御 | 2021年 8月 4日 | |
特許 6915057 | ドーパント種をワークピース上に堆積する堆積方法、ドーパント種をワークピース内に注入する注入方法及びワークピースを処理するワークピース処理方法 | 2021年 8月 4日 | |
特許 6899218 | 基板をエッチングする方法、デバイス構造をエッチングする方法及び処理装置 | 2021年 7月 7日 | |
特許 6889181 | ワークピースの中に処理種を注入する方法及びワークピースにドーパントを注入する方法、並びに、ワークピースを処理する装置 | 2021年 6月18日 | |
特許 6889773 | 基板およびその上に配置された層のパターニング方法、ならびにデバイス構造の形成方法 | 2021年 6月18日 |
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6983796 6976441 6974453 6964716 6960060 6948316 6944949 6934080 6928610 6920195 6913678 6915057 6899218 6889181 6889773
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