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グローバルウェーハズ・ジャパン株式会社
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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第2178位 9件
（
2024年：第1174位 20件）
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第1731位 10件
（2024年：第1355位 15件）
（ランキング更新日：2026年1月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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グローバルウェーハズ・ジャパン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7770849 | 研磨パッド、研磨装置、および研磨方法 | 2025年11月17日 | |
| 特許 7770907 | シリコンエピタキシャル基板の製造方法およびシリコンエピタキシャル基板 | 2025年11月17日 | |
| 特許 7764239 | 高抵抗シリコンウェーハの厚さ測定方法及び平坦度測定方法 | 2025年11月 5日 | |
| 特許 7705786 | 単結晶引上装置及び単結晶の製造方法 | 2025年 7月10日 | |
| 特許 7705788 | 単結晶引上装置及び単結晶の製造方法 | 2025年 7月10日 | |
| 特許 7692880 | シリコン単結晶インゴットの評価方法 | 2025年 6月16日 | |
| 特許 7678739 | シリコン単結晶の製造方法 | 2025年 5月16日 | |
| 特許 7633827 | シリコンウェーハ及びそれを用いた積層ウェーハの製造方法 | 2025年 2月20日 | |
| 特許 7633837 | シリコンウェーハ及びその製造方法 | 2025年 2月20日 | |
| 特許 7613858 | シリコンウェーハおよびシリコンウェーハの製造方法 | 2025年 1月15日 |
10 件中 1-10 件を表示
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7770849 7770907 7764239 7705786 7705788 7692880 7678739 7633827 7633837 7613858
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