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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第116位 393件
(2014年:第100位 441件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第115位 257件
(2014年:第108位 377件)
(ランキング更新日:2025年6月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5711830 | 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスクおよび位相シフトマスクブランクの製造方法 | 2015年 5月 7日 | |
特許 5712055 | 電子内視鏡システム | 2015年 5月 7日 | |
特許 5712336 | マスクブランク用基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、マスクブランク用基板の製造方法及び多層反射膜付き基板の製造方法並びに半導体装置の製造方法 | 2015年 5月 7日 | |
特許 5714085 | 磁気ディスク用基板および磁気ディスク | 2015年 5月 7日 | |
特許 5714086 | 磁気ディスク用基板および磁気ディスク | 2015年 5月 7日 | |
特許 5714266 | マスクブランク、転写用マスクおよびこれらの製造方法 | 2015年 5月 7日 | |
特許 5714672 | マスクブランク用基板、マスクブランク、露光用マスク、半導体デバイスの製造方法、及びマスクブランク用基板の製造方法 | 2015年 5月 7日 | |
特許 5714882 | 記録媒体用ガラス基板 | 2015年 5月 7日 | |
特許 5714892 | ガラス基板の製造方法 | 2015年 5月 7日 | |
特許 5714920 | 偏光部材の製造方法 | 2015年 5月 7日 | |
特許 5707342 | インプリント用回転式モールド及びその製造方法 | 2015年 4月30日 | |
特許 5709301 | フツリン酸塩光学ガラスの製造方法および光学素子の製造方法 | 2015年 4月30日 | |
特許 5710923 | 多焦点レンズシミュレーション装置及びシミュレーション方法 | 2015年 4月30日 | |
特許 5703430 | 磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスク | 2015年 4月22日 | |
特許 5704754 | マスクブランク及び転写用マスクの製造方法 | 2015年 4月22日 |
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5711830 5712055 5712336 5714085 5714086 5714266 5714672 5714882 5714892 5714920 5707342 5709301 5710923 5703430 5704754
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