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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第185位 291件
(2016年:第182位 243件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第113位 286件
(2016年:第93位 350件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6225040 | 広角レンズ | 2017年11月 1日 | |
特許 6225248 | 磁気ディスク用ガラス基板、熱アシスト磁気記録用磁気ディスク、及び、熱アシスト磁気記録用磁気ディスクの製造方法 | 2017年11月 1日 | |
特許 6218309 | マスクブランク収納ケース及びマスクブランク収納体 | 2017年10月25日 | |
特許 6218315 | 内視鏡システム | 2017年10月25日 | |
特許 6218536 | 光学素子およびその製造方法 | 2017年10月25日 | |
特許 6219594 | 薄膜形成装置、及び薄膜形成方法 | 2017年10月25日 | |
特許 6220119 | 注射針 | 2017年10月25日 | |
特許 6220411 | 情報記録媒体用基板に供するためのガラス、情報記録媒体用基板および情報記録媒体とそれらの製造方法 | 2017年10月25日 | |
特許 6215709 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | 2017年10月18日 | |
特許 6215770 | 磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスク、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | 2017年10月18日 | |
特許 6216835 | マスクブランク用基板、マスクブランク、反射型マスクブランク、転写マスク、及び反射型マスク、並びにそれらの製造方法 | 2017年10月18日 | |
特許 6212257 | 電子内視鏡システム | 2017年10月11日 | |
特許 6206831 | EUVリソグラフィー用マスクブランク用基板の製造方法、EUVリソグラフィー用多層反射膜付き基板の製造方法、EUVリソグラフィー用マスクブランクの製造方法、及びEUVリソグラフィー用転写マスクの製造方法 | 2017年10月 4日 | |
特許 6207187 | 眼鏡レンズの製造方法 | 2017年10月 4日 | |
特許 6207226 | 内視鏡システム | 2017年10月 4日 |
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6225040 6225248 6218309 6218315 6218536 6219594 6220119 6220411 6215709 6215770 6216835 6212257 6206831 6207187 6207226
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特許庁:AI/DX時代に即した産業財産権制度について ~有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性~
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