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HOYA株式会社

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  2018年 出願公開件数ランキング    第204位 213件 下降2017年:第185位 291件)

  2018年 特許取得件数ランキング    第136位 218件 下降2017年:第113位 286件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 6411046 マスクブランク基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及び転写用マスクの製造方法 2018年10月24日
特許 6411734 研磨用ガラス光学素子ブランク用成形型、並びに、研磨用ガラス光学素子ブランクおよび光学素子の製造方法 2018年10月24日
特許 6411768 画像処理装置 2018年10月24日
特許 6411816 ノイズ低減装置 2018年10月24日
特許 6412361 内視鏡用撮像装置 2018年10月24日
特許 6405118 撮像装置 2018年10月17日
特許 6407582 基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び基板加工装置 2018年10月17日
特許 6408790 反射型マスクブランク、反射型マスク及びその製造方法、並びに半導体装置の製造方法 2018年10月17日
特許 6401341 EUVリソグラフィー用多層反射膜付き基板及びEUVリソグラフィー用反射型マスクブランク、並びにEUVリソグラフィー用反射型マスク及び半導体装置の製造方法 2018年10月10日
特許 6400221 内視鏡形状把握システム 2018年10月 3日
特許 6400360 基板の製造方法、マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び基板製造装置 2018年10月 3日
特許 6400370 基板の製造方法、マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び基板製造装置 2018年10月 3日
特許 6400763 マスクブランク、転写用マスクおよび半導体デバイスの製造方法 2018年10月 3日
特許 6401166 マスクブランク、マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法 2018年10月 3日
特許 6396118 位相シフトマスクブランク及びその製造方法、並びに位相シフトマスクの製造方法 2018年 9月26日

218 件中 31-45 件を表示

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6411046 6411734 6411768 6411816 6412361 6405118 6407582 6408790 6401341 6400221 6400360 6400370 6400763 6401166 6396118

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