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(
2017年:第243位 171件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第136位 218件
(
2017年:第113位 286件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6412361 | 内視鏡用撮像装置 | 2018年10月24日 | |
| 特許 6411816 | ノイズ低減装置 | 2018年10月24日 | |
| 特許 6411768 | 画像処理装置 | 2018年10月24日 | |
| 特許 6411734 | 研磨用ガラス光学素子ブランク用成形型、並びに、研磨用ガラス光学素子ブランクおよび光学素子の製造方法 | 2018年10月24日 | |
| 特許 6411046 | マスクブランク基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及び転写用マスクの製造方法 | 2018年10月24日 | |
| 特許 6405118 | 撮像装置 | 2018年10月17日 | |
| 特許 6407582 | 基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び基板加工装置 | 2018年10月17日 | |
| 特許 6408790 | 反射型マスクブランク、反射型マスク及びその製造方法、並びに半導体装置の製造方法 | 2018年10月17日 | |
| 特許 6401341 | EUVリソグラフィー用多層反射膜付き基板及びEUVリソグラフィー用反射型マスクブランク、並びにEUVリソグラフィー用反射型マスク及び半導体装置の製造方法 | 2018年10月10日 | |
| 特許 6400370 | 基板の製造方法、マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び基板製造装置 | 2018年10月 3日 | |
| 特許 6400221 | 内視鏡形状把握システム | 2018年10月 3日 | |
| 特許 6400360 | 基板の製造方法、マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び基板製造装置 | 2018年10月 3日 | |
| 特許 6400763 | マスクブランク、転写用マスクおよび半導体デバイスの製造方法 | 2018年10月 3日 | |
| 特許 6401166 | マスクブランク、マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法 | 2018年10月 3日 | |
| 特許 6396946 | 画像処理装置および電子内視鏡システム | 2018年 9月26日 |
218 件中 31-45 件を表示
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6412361 6411816 6411768 6411734 6411046 6405118 6407582 6408790 6401341 6400370 6400221 6400360 6400763 6401166 6396946
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