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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第204位 213件
(2017年:第185位 291件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第136位 218件
(2017年:第113位 286件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6327823 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び円盤形状のガラス基板 | 2018年 5月23日 | |
特許 6328052 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体の製造方法および研磨パッド | 2018年 5月23日 | |
特許 6328372 | プラスチックレンズ及びその製造方法 | 2018年 5月23日 | |
特許 6328502 | 基板の製造方法、マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び基板製造装置 | 2018年 5月23日 | |
特許 6328863 | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 | 2018年 5月23日 | |
特許 6328988 | 超音波内視鏡システム | 2018年 5月23日 | |
特許 6329041 | 内視鏡の湾曲操作機構 | 2018年 5月23日 | |
特許 6324756 | 位相シフトマスクブランク及びその製造方法、位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法 | 2018年 5月16日 | |
特許 6325153 | マスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 | 2018年 5月16日 | |
特許 6325460 | 光学素子の製造方法 | 2018年 5月16日 | |
特許 6320944 | マスクブランク用基板、マスクブランク、転写用マスク及びこれらの製造方法並びに半導体デバイスの製造方法 | 2018年 5月 9日 | |
特許 6321125 | マスクブランク、転写用マスク、転写用マスクの製造方法、および半導体デバイスの製造方法 | 2018年 5月 9日 | |
特許 6321265 | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 | 2018年 5月 9日 | |
特許 6322250 | フォトマスクブランク | 2018年 5月 9日 | |
特許 6322607 | 表示デバイス製造用多階調フォトマスク、表示デバイス製造用多階調フォトマスクの製造方法、及び薄膜トランジスタの製造方法 | 2018年 5月 9日 |
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6327823 6328052 6328372 6328502 6328863 6328988 6329041 6324756 6325153 6325460 6320944 6321125 6321265 6322250 6322607
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特許庁:AI/DX時代に即した産業財産権制度について ~有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性~
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