ＨＯＹＡ株式会社
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第204位 213件
（
2017年：第185位 291件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第136位 218件
（2017年：第113位 286件）
（ランキング更新日：2025年6月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ＨＯＹＡ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6306942 | 集光光学系及び光源光学系 | 2018年 4月 4日 | |
| 特許 6307407 | ガラス基板の製造方法 | 2018年 4月 4日 | |
| 特許 6300466 | マスクブランク用基板、マスクブランク、インプリントモールド、およびそれらの製造方法 | 2018年 3月28日 | |
| 特許 6301127 | 反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びに半導体装置の製造方法 | 2018年 3月28日 | |
| 特許 6301383 | フォトマスクブランク及びこれを用いたフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法 | 2018年 3月28日 | |
| 特許 6302502 | 電子デバイスの製造方法、表示装置の製造方法、フォトマスクの製造方法、及びフォトマスク | 2018年 3月28日 | |
| 特許 6302520 | マスクブランク、位相シフトマスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 | 2018年 3月28日 | |
| 特許 6297321 | 機能膜付き基板の製造方法、多層膜付き基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び転写用マスクの製造方法 | 2018年 3月20日 | |
| 特許 6297512 | マスクブランク用基板の製造方法、多層膜付き基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び転写用マスクの製造方法 | 2018年 3月20日 | |
| 特許 6297734 | マスクブランク、位相シフトマスクおよび半導体デバイスの製造方法 | 2018年 3月20日 | |
| 特許 6297766 | マスクブランク、転写用マスク及び半導体デバイスの製造方法 | 2018年 3月20日 | |
| 特許 6298259 | マスクブランクの製造方法及び転写用マスクの製造方法 | 2018年 3月20日 | |
| 特許 6298354 | フォトマスクの製造方法及びフォトマスク基板 | 2018年 3月20日 | |
| 特許 6298408 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | 2018年 3月20日 | |
| 特許 6298448 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板、及び磁気ディスクの製造方法 | 2018年 3月20日 |
218 件中 136-150 件を表示
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6306942 6307407 6300466 6301127 6301383 6302502 6302520 6297321 6297512 6297734 6297766 6298259 6298354 6298408 6298448
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