※ ログインすれば出願人(HOYA株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2019年 出願公開件数ランキング 第231位 195件
(2018年:第204位 213件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第193位 139件
(2018年:第136位 218件)
(ランキング更新日:2025年2月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
再表 2018-43550 | 電子内視鏡用プロセッサ及び電子内視鏡システム | 2019年 2月 7日 | |
特開 2019-19050 | 光学ガラスおよび光学素子 | 2019年 2月 7日 | |
特開 2019-20712 | フォトマスクブランクおよびその製造方法、フォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法 | 2019年 2月 7日 | |
再表 2018-43552 | 電子内視鏡用プロセッサ及び電子内視鏡システム | 2019年 1月31日 | |
再表 2018-135467 | 反射型マスクブランク、反射型マスク及びその製造方法、並びに半導体装置の製造方法 | 2019年 1月31日 | |
再表 2018-38269 | 電子内視鏡用プロセッサ及び電子内視鏡システム | 2019年 1月24日 | |
特開 2019-11242 | 円環状のガラス素板、円環状のガラス素板の製造方法、円環状のガラス基板の製造方法、及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | 2019年 1月24日 | |
特開 2019-12184 | マスクブランク、転写用マスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 | 2019年 1月24日 | |
特開 2019-12275 | マスクブランク用基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、透過型マスクブランク、及び透過型マスク、並びに半導体装置の製造方法 | 2019年 1月24日 | |
特開 2019-12280 | フォトマスク、フォトマスクの製造方法、フォトマスクブランク及び表示装置の製造方法 | 2019年 1月24日 | |
特開 2019-12287 | マスクブランク、反射型マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 | 2019年 1月24日 | |
再表 2018-16651 | 内視鏡システム | 2019年 1月10日 | |
再表 2018-43551 | 電子内視鏡用プロセッサ及び電子内視鏡システム | 2019年 1月10日 | |
特開 2019-655 | 内視鏡用キャップ | 2019年 1月10日 | |
特開 2019-656 | 内視鏡用キャップ | 2019年 1月10日 |
196 件中 181-195 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2018-43550 2019-19050 2019-20712 2018-43552 2018-135467 2018-38269 2019-11242 2019-12184 2019-12275 2019-12280 2019-12287 2018-16651 2018-43551 2019-655 2019-656
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。HOYA株式会社の知財の動向チェックに便利です。
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
3月4日(火) - 東京 港区
3月4日(火) -
3月4日(火) -
3月4日(火) -
3月5日(水) -
3月5日(水) -
3月6日(木) -
3月6日(木) - 東京 品川区
3月6日(木) - 東京 港区
3月6日(木) -
3月7日(金) -
3月7日(金) - 東京 港区
3月7日(金) -
3月7日(金) -
3月4日(火) - 東京 港区
東京都外神田4-14-2 東京タイムズタワー2703号室 特許・実用新案 鑑定
〒063-0811 札幌市西区琴似1条4丁目3-18紀伊国屋ビル3階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 コンサルティング
〒101-0032 東京都千代田区岩本町3-2-10 SN岩本町ビル9階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング