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サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第1583位 15件
（
2020年：第1844位 12件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第1299位 14件
（2020年：第2418位 6件）
（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6985338 | 光源のための波長安定化 | 2021年12月22日 | |
| 特許 6970141 | 光源内の外乱の補償 | 2021年11月24日 | |
| 特許 6948403 | 繰り返し率ベースの利得推定器を用いる改善されたレーザ光エネルギー及びドーズの制御 | 2021年10月13日 | |
| 特許 6935581 | フォトリソグラフィのためのディザ不要な適応ドーズ制御及びロバストドーズ制御の方法 | 2021年 9月15日 | |
| 特許 6899925 | レーザビームのアライメント及び診断のための方法及び装置 | 2021年 7月 7日 | |
| 特許 6892945 | リソグラフィ光学部品の調節及びモニタリング | 2021年 6月23日 | |
| 特許 6890177 | スペクトル特徴計測のための光ビームの均質化 | 2021年 6月18日 | |
| 特許 6886525 | パルス光ビームのスペクトル特徴制御 | 2021年 6月16日 | |
| 特許 6876125 | スペクトルフィーチャ制御装置 | 2021年 5月26日 | |
| 特許 6874137 | エキシマ光源におけるスペックルの低減 | 2021年 5月19日 | |
| 特許 6858854 | ＤＵＶ光源におけるパルス毎の波長目標追跡用の波長制御システム | 2021年 4月14日 | |
| 特許 6853879 | ウェーハベースの光源パラメータ制御 | 2021年 3月31日 | |
| 特許 6807933 | ガス放電光源におけるガス最適化 | 2021年 1月 6日 | |
| 特許 6807954 | リソグラフィ光学部品の調節及びモニタリング | 2021年 1月 6日 |
14 件中 1-14 件を表示
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6985338 6970141 6948403 6935581 6899925 6892945 6890177 6886525 6876125 6874137 6858854 6853879 6807933 6807954
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