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アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ（ルクセンブルグ）ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第1346位 21件
（
2016年：第2110位 10件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第1304位 15件
（2016年：第5777位 2件）
（ランキング更新日：2025年9月1日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ（ルクセンブルグ）ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2017-90849 | 高耐熱性レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 | 2017年 5月25日 | |
| 特表 2017-511780 | ポリオキソメタレート及びヘテロポリオキソメタレート組成物、及びそれらの使用法 | 2017年 4月27日 | |
| 再表 2015-163360 | 共重合ポリシラザン、その製造方法およびそれを含む組成物ならびにそれを用いたシリカ質膜の形成方法 | 2017年 4月20日 | |
| 再表 2015-178387 | 上層膜形成用組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法 | 2017年 4月20日 | |
| 再表 2015-182581 | 空隙形成用組成物、その組成物を用いて形成された空隙を具備した半導体装置、およびその組成物を用いた半導体装置の製造方法 | 2017年 4月20日 | |
| 再表 2015-16180 | 基板処理方法、基板処理装置、半導体装置の製造方法及びプログラム | 2017年 3月 2日 | |
| 再表 2014-196509 | レジスト下層膜形成用組成物 | 2017年 2月23日 |
22 件中 16-22 件を表示
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2017-90849 2017-511780 2015-163360 2015-178387 2015-182581 2015-16180 2014-196509
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