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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第14391位 1件 (2021年:第12881位 1件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第2447位 7件 (2021年:第4240位 3件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7184773 | 逐次浸透合成装置 | 2022年12月 6日 | |
特許 7182676 | 周期的堆積により基材上に金属性膜を形成する方法及び関連する半導体デバイス構造 | 2022年12月 2日 | |
特許 7168355 | 半導体加工装置および半導体加工装置を較正する方法 | 2022年11月 9日 | |
特許 7097383 | 半導体デバイスを製造するための装置および方法 | 2022年 7月 7日 | |
特許 7093185 | 膜堆積プロセスの間の残留物蓄積を減少させるための反応器システムおよび方法 | 2022年 6月29日 | |
特許 7048575 | ギャップを充填する方法及び装置 | 2022年 4月 5日 | |
特許 7048611 | 基材上に構造を形成する方法 | 2022年 4月 5日 |
7 件中 1-7 件を表示
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7184773 7182676 7168355 7097383 7093185 7048575 7048611
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1月31日(金) -
1月31日(金) -
2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
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