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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第132位 382件
(2012年:第153位 299件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第98位 420件
(2012年:第94位 428件)
(ランキング更新日:2025年6月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2013-145405 | NDフィルターおよびその製造方法 | 2013年 7月25日 | |
再表 2011-152277 | カラーフィルタ用着色組成物、カラーフィルタ及び表示素子 | 2013年 7月25日 | |
特開 2013-145368 | レジスト下層膜形成用樹脂組成物、レジスト下層膜、その形成方法及びパターン形成方法 | 2013年 7月25日 | |
再表 2011-145703 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 | 2013年 7月22日 | |
再表 2011-145702 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 | 2013年 7月22日 | |
再表 2011-145663 | 液浸上層膜形成用組成物及びフォトレジストパターン形成方法 | 2013年 7月22日 | |
特開 2013-142849 | 液晶配向剤 | 2013年 7月22日 | |
特開 2013-139547 | 硬化性組成物、硬化物および光半導体装置 | 2013年 7月18日 | |
再表 2011-136098 | フィルム、樹脂組成物および重合体 | 2013年 7月18日 | |
再表 2011-136074 | ポジ型感放射線性組成物、表示素子用層間絶縁膜及びその形成方法 | 2013年 7月18日 | |
再表 2011-136073 | ポジ型感放射線性組成物、表示素子用層間絶縁膜及びその形成方法 | 2013年 7月18日 | |
特開 2013-140229 | タッチパネル、タッチパネルの製造方法、感放射線性組成物およびタッチパネル用硬化膜 | 2013年 7月18日 | |
再表 2011-125800 | ナノインプリント用硬化性組成物、半導体素子及びナノインプリント方法 | 2013年 7月11日 | |
再表 2011-125839 | レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法 | 2013年 7月11日 | |
再表 2011-125685 | 感放射線性樹脂組成物 | 2013年 7月 8日 |
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2013-145405 2011-152277 2013-145368 2011-145703 2011-145702 2011-145663 2013-142849 2013-139547 2011-136098 2011-136074 2011-136073 2013-140229 2011-125800 2011-125839 2011-125685
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