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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第132位 382件
(2012年:第153位 299件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第98位 420件
(2012年:第94位 428件)
(ランキング更新日:2025年2月14日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
再表 2012-23474 | 着色剤、着色組成物、カラーフィルタ及び表示素子 | 2013年10月28日 | |
特開 2013-222850 | 基材の処理方法、積層体、仮固定材、仮固定用組成物および半導体装置 | 2013年10月28日 | 共同出願 |
特開 2013-221980 | 着色組成物、カラーフィルタ及び表示素子 | 2013年10月28日 | |
再表 2012-23626 | 電極用バインダー組成物 | 2013年10月28日 | |
特開 2013-218207 | 感放射線性着色組成物、カラーフィルタ及び表示素子 | 2013年10月24日 | |
特開 2013-218308 | 現像液の精製方法、精製現像液、及びレジストパターン形成方法 | 2013年10月24日 | |
特開 2013-219173 | 半導体素子、半導体基板、感放射線性樹脂組成物、保護膜および表示素子 | 2013年10月24日 | |
特開 2013-218312 | 近赤外線カットフィルターおよびその用途 | 2013年10月24日 | |
特開 2013-213977 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶表示素子、重合体及び化合物 | 2013年10月17日 | |
特開 2013-213860 | フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 | 2013年10月17日 | |
特開 2013-214040 | レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法 | 2013年10月17日 | |
特開 2013-213999 | フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法及び重合体 | 2013年10月17日 | |
特開 2013-213951 | フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2013年10月17日 | |
特開 2013-214041 | レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法 | 2013年10月17日 | |
特開 2013-210606 | 樹脂組成物、重合体、硬化膜および電子部品 | 2013年10月10日 |
382 件中 46-60 件を表示
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2012-23474 2013-222850 2013-221980 2012-23626 2013-218207 2013-218308 2013-219173 2013-218312 2013-213977 2013-213860 2013-214040 2013-213999 2013-213951 2013-214041 2013-210606
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2月17日(月) - 大阪 大阪市
(オンライン参加可)体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする?~海外で商標権がバッティング?オープンファクトリーの知財リスク?~
2月18日(火) -
2月19日(水) - 東京 港区
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月20日(木) - 東京 港区
2月20日(木) -
2月20日(木) -
2月20日(木) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月17日(月) - 大阪 大阪市
(オンライン参加可)体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする?~海外で商標権がバッティング?オープンファクトリーの知財リスク?~
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
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2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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