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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第132位 382件 (2012年:第153位 299件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第98位 420件 (2012年:第94位 428件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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再表 2012-23474 | 着色剤、着色組成物、カラーフィルタ及び表示素子 | 2013年10月28日 | |
特開 2013-222850 | 基材の処理方法、積層体、仮固定材、仮固定用組成物および半導体装置 | 2013年10月28日 | 共同出願 |
特開 2013-221980 | 着色組成物、カラーフィルタ及び表示素子 | 2013年10月28日 | |
再表 2012-23626 | 電極用バインダー組成物 | 2013年10月28日 | |
特開 2013-218207 | 感放射線性着色組成物、カラーフィルタ及び表示素子 | 2013年10月24日 | |
特開 2013-218308 | 現像液の精製方法、精製現像液、及びレジストパターン形成方法 | 2013年10月24日 | |
特開 2013-219173 | 半導体素子、半導体基板、感放射線性樹脂組成物、保護膜および表示素子 | 2013年10月24日 | |
特開 2013-218312 | 近赤外線カットフィルターおよびその用途 | 2013年10月24日 | |
特開 2013-213977 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶表示素子、重合体及び化合物 | 2013年10月17日 | |
特開 2013-213860 | フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 | 2013年10月17日 | |
特開 2013-214040 | レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法 | 2013年10月17日 | |
特開 2013-213999 | フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法及び重合体 | 2013年10月17日 | |
特開 2013-213951 | フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2013年10月17日 | |
特開 2013-214041 | レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法 | 2013年10月17日 | |
特開 2013-210606 | 樹脂組成物、重合体、硬化膜および電子部品 | 2013年10月10日 |
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2012-23474 2013-222850 2013-221980 2012-23626 2013-218207 2013-218308 2013-219173 2013-218312 2013-213977 2013-213860 2013-214040 2013-213999 2013-213951 2013-214041 2013-210606
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
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2月7日(金) -
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