特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ＪＳＲ株式会社

※ ログインすれば出願人(ＪＳＲ株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2012年出願公開件数ランキング　　　第153位　299件（2011年：第115位　382件）

　■　2012年特許取得件数ランキング　　　第94位　428件（2011年：第91位　368件）

（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

ＪＳＲ株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特許 5041124	液晶配向剤および液晶表示素子	2012年10月 3日
特許 5041169	液晶配向剤および液晶表示素子	2012年10月 3日
特許 5041163	液晶配向剤および液晶表示素子	2012年10月 3日
特許 5041123	垂直液晶配向剤	2012年10月 3日
特許 5040839	レジスト下層膜形成組成物	2012年10月 3日
特許 5037196	高分子型燃料電池用電極電解質およびその用途	2012年 9月26日	共同出願
特許 5034950	化合物の製造方法および重合体、ならびに樹脂組成物	2012年 9月26日
特許 5035523	垂直配向型液晶配向剤および垂直配向型液晶表示素子	2012年 9月26日
特許 5035522	ビニルポリマー、ブロッキング剤、およびこれを用いたプローブ結合粒子の製造方法	2012年 9月26日
特許 5034301	高屈折材料形成用組成物およびその硬化体、ならびに高屈折材料形成用組成物の製造方法	2012年 9月26日
特許 5034283	高屈折材料形成用組成物およびその硬化体、ならびに高屈折材料形成用組成物の製造方法	2012年 9月26日
特許 5035466	レジストパターン形成用感放射線性樹脂組成物	2012年 9月26日
特許 5035252	レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法	2012年 9月26日
特許 5035240	感放射線性絶縁樹脂組成物	2012年 9月26日
特許 5035151	パターン反転用樹脂組成物及び反転パターン形成方法	2012年 9月26日

428 件中 151-165 件を表示

... 11

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

5041124 5041169 5041163 5041123 5040839 5037196 5034950 5035523 5035522 5034301 5034283 5035466 5035252 5035240 5035151

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ＪＳＲ株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数