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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第170位 269件 (2013年:第132位 382件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第113位 371件 (2013年:第98位 420件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5413568 | 化学機械研磨用水系分散体およびその製造方法、ならびに化学機械研磨方法 | 2014年 2月12日 | |
特許 5413567 | 化学機械研磨用水系分散体およびその製造方法、ならびに化学機械研磨方法 | 2014年 2月12日 | |
特許 5413566 | 化学機械研磨用水系分散体およびその製造方法、ならびに化学機械研磨方法 | 2014年 2月12日 | |
特許 5413610 | 液晶配向剤および液晶配向膜の形成方法 | 2014年 2月12日 | |
特許 5413557 | 液晶配向剤および液晶表示素子 | 2014年 2月12日 | |
特許 5413185 | ネガ型感放射線性組成物、硬化パターン形成方法および硬化パターン | 2014年 2月12日 | |
特許 5413124 | ポジ型感放射線性組成物、層間絶縁膜及びその形成方法 | 2014年 2月12日 | |
特許 5413556 | 液晶配向剤、液晶配向膜の形成方法および液晶表示素子 | 2014年 2月12日 | |
特許 5413555 | 液晶配向剤、液晶配向膜の形成方法および液晶表示素子 | 2014年 2月12日 | |
特許 5408436 | アルミニウム膜形成用組成物の製造方法 | 2014年 2月 5日 | |
特許 5408437 | 化学機械研磨用水系分散体、および該分散体を調製するためのキット、該キットを用いた化学機械研磨用水系分散体の調製方法、ならびに半導体装置の化学機械研磨方法 | 2014年 2月 5日 | |
特許 5407108 | 熱可塑性樹脂組成物、光学フィルムおよびフィルム製造方法 | 2014年 2月 5日 | |
特許 5408415 | 1位置換3,5−ジアミノベンゼンの製造方法 | 2014年 2月 5日 | |
特許 5407866 | スルホン化合物、スルホン酸塩および感放射線性樹脂組成物 | 2014年 2月 5日 | |
特許 5407332 | クォータピリジン誘導体の製造方法及びその中間体 | 2014年 2月 5日 |
371 件中 316-330 件を表示
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5413568 5413567 5413566 5413610 5413557 5413185 5413124 5413556 5413555 5408436 5408437 5407108 5408415 5407866 5407332
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
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2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
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2月6日(木) -
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2月7日(金) - 東京 港区
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2月7日(金) -
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