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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第153位 299件 (2011年:第115位 382件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第94位 428件 (2011年:第91位 368件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 4881534 | ジエン系ゴム・無機化合物複合体およびその製造方法並びにゴム組成物 | 2012年 2月22日 | 共同出願 |
特許 4879639 | 高分子型燃料電池用電極電解質およびその用途 | 2012年 2月22日 | 共同出願 |
特許 4878440 | 液状硬化性樹脂組成物 | 2012年 2月15日 | 共同出願 |
特許 4877448 | 化学機械研磨パッド | 2012年 2月15日 | |
特許 4877443 | 反応性シリル基を有する環状オレフィン | 2012年 2月15日 | |
特許 4876609 | 有機電子デバイス用の捕捉剤及び有機電子デバイス | 2012年 2月15日 | |
特許 4877486 | 絶縁膜形成用組成物およびその製造方法、ならびにシリカ系絶縁膜およびその形成方法 | 2012年 2月15日 | |
特許 4877306 | 感放射線性樹脂組成物 | 2012年 2月15日 | |
特許 4877454 | 表面疎水化方法、ならびに半導体装置およびその製造方法 | 2012年 2月15日 | |
特許 4877452 | 表面疎水化用組成物、表面疎水化方法、半導体装置およびその製造方法 | 2012年 2月15日 | |
特許 4877509 | ブロッキング剤ならびにプローブ結合粒子およびその製造方法 | 2012年 2月15日 | |
特許 4877388 | ポジ型感放射線性組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法 | 2012年 2月15日 | |
特許 4877231 | 感放射線性樹脂組成物 | 2012年 2月15日 | |
特許 4877101 | レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法 | 2012年 2月15日 | |
特許 4876410 | 直接メタノール型燃料電池用プロトン伝導膜 | 2012年 2月15日 |
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4881534 4879639 4878440 4877448 4877443 4876609 4877486 4877306 4877454 4877452 4877509 4877388 4877231 4877101 4876410
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
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