ＪＳＲ株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第170位 269件
（
2013年：第132位 382件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第113位 371件
（2013年：第98位 420件）
（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ＪＳＲ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5629490 | 芳香族化合物 | 2014年11月19日 | 共同出願 |
| 特許 5625460 | ポジ型感放射線性組成物、層間絶縁膜及びその形成方法 | 2014年11月19日 | |
| 特許 5626510 | 液晶配向剤、液晶配向膜の形成方法および液晶表示素子の製造方法 | 2014年11月19日 | |
| 特許 5625301 | シリコン含有膜形成用組成物及びシリコン含有膜並びにパターン形成方法 | 2014年11月19日 | |
| 特許 5625317 | 新規な芳香族化合物および側鎖にスルホン酸基を含む芳香環を有するポリアリーレン系共重合体 | 2014年11月19日 | |
| 特許 5626526 | アフィニティークロマトグラフィー用充填剤 | 2014年11月19日 | |
| 特許 5626207 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 | 2014年11月19日 | |
| 特許 5621966 | 液晶表示素子の製造方法 | 2014年11月12日 | |
| 特許 5621847 | 重合体、その製造方法、フィルムおよびその製造方法 | 2014年11月12日 | |
| 特許 5621819 | 硬化性組成物、硬化物および光半導体装置 | 2014年11月12日 | |
| 特許 5621275 | イオンプランテーション用フォトレジストパターン形成方法。 | 2014年11月12日 | |
| 特許 5617339 | 感放射線性樹脂組成物、重合体及び化合物 | 2014年11月 5日 | |
| 特許 5617844 | 感放射線性樹脂組成物 | 2014年11月 5日 | |
| 特許 5617476 | シロキサンポリマー組成物、硬化膜及び硬化膜の形成方法 | 2014年11月 5日 | |
| 特許 5617504 | 感放射線性樹脂組成物 | 2014年11月 5日 |
371 件中 31-45 件を表示
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5629490 5625460 5626510 5625301 5625317 5626526 5626207 5621966 5621847 5621819 5621275 5617339 5617844 5617476 5617504
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