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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第170位 269件
(2013年:第132位 382件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第113位 371件
(2013年:第98位 420件)
(ランキング更新日:2025年8月1日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5560564 | 多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成用組成物及びシリコン含有膜並びにパターン形成方法 | 2014年 7月30日 | |
特許 5562688 | リチウムイオンキャパシタの製造方法、および正極の製造方法 | 2014年 7月30日 | |
特許 5561014 | 異方導電性シートおよびその製造方法、電子部材の接続方法、ならびに電子部品 | 2014年 7月30日 | |
特許 5556671 | 硬化性組成物、硬化膜及び半導体発光素子 | 2014年 7月23日 | |
特許 5556395 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶表示素子 | 2014年 7月23日 | |
特許 5555914 | 感放射線性樹脂組成物 | 2014年 7月23日 | |
特許 5556396 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶表示素子、化合物及びこの化合物の製造方法 | 2014年 7月23日 | |
特許 5550800 | ガスバリアコーティング組成物、その製造方法およびガスバリアコーティングフィルム | 2014年 7月16日 | 共同出願 |
特許 5549111 | 化学機械研磨パッドの研磨層形成用組成物、化学機械研磨パッドおよび化学機械研磨方法 | 2014年 7月16日 | |
特許 5552894 | 液晶配向剤および液晶表示素子 | 2014年 7月16日 | |
特許 5549298 | 半導体レジスト用重合体の重合方法及び半導体レジスト用重合体 | 2014年 7月16日 | |
特許 5552959 | 感光性接着剤組成物、前記組成物を用いる積層体または固体撮像素子の製造方法、および固体撮像素子 | 2014年 7月16日 | |
特許 5549439 | 表示素子用の保護膜、絶縁膜又はスペーサーとしての硬化物形成用の感放射線性樹脂組成物、硬化物及びその形成方法 | 2014年 7月16日 | |
特許 5549124 | ポジ型感放射線性組成物、層間絶縁膜及びその形成方法 | 2014年 7月16日 | |
特許 5552785 | 固体高分子電解質膜およびその製造方法、液状組成物 | 2014年 7月16日 |
371 件中 121-135 件を表示
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5560564 5562688 5561014 5556671 5556395 5555914 5556396 5550800 5549111 5552894 5549298 5552959 5549439 5549124 5552785
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8月5日(火) - 大阪 大阪市
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