ホーム > 特許ランキング > 信越化学工業株式会社 > 2011年 > 出願公開一覧
※ ログインすれば出願人(信越化学工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2011年 出願公開件数ランキング 第107位 416件 (2010年:第112位 429件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第67位 474件 (2010年:第72位 394件)
(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2011-174972 | 封止材パターンの形成方法 | 2011年 9月 8日 | |
特開 2011-168409 | 合成石英ガラス部材の製造方法 | 2011年 9月 1日 | |
特開 2011-170316 | パターン形成方法 | 2011年 9月 1日 | |
特開 2011-168634 | エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | 2011年 9月 1日 | |
特開 2011-168768 | 付加硬化型フルオロポリエーテル系接着剤組成物 | 2011年 9月 1日 | |
特開 2011-162430 | セラミックス成形用水溶性バインダー及びこれを用いたセラミックス成形用組成物 | 2011年 8月25日 | |
特開 2011-162500 | 環状シラザン化合物の製造方法 | 2011年 8月25日 | |
特開 2011-162497 | 環状シラザン化合物及びその製造方法 | 2011年 8月25日 | |
特開 2011-162496 | シリル基で保護されたアミノ基を有する有機ケイ素化合物及びその製造方法 | 2011年 8月25日 | |
特開 2011-164584 | ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2011年 8月25日 | |
特開 2011-164345 | レジスト下層膜材料、パターン形成方法 | 2011年 8月25日 | |
特開 2011-162768 | 高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 | 2011年 8月25日 | |
特開 2011-164402 | ペリクルの製造方法 | 2011年 8月25日 | |
特開 2011-164259 | リソグラフィー用ペリクル | 2011年 8月25日 | |
特開 2011-166021 | 太陽電池の製造方法及び太陽電池 | 2011年 8月25日 |
416 件中 136-150 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2011-174972 2011-168409 2011-170316 2011-168634 2011-168768 2011-162430 2011-162500 2011-162497 2011-162496 2011-164584 2011-164345 2011-162768 2011-164402 2011-164259 2011-166021
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。信越化学工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
〒243-0021 神奈川県厚木市岡田3050 厚木アクストメインタワー3階B-1 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
大阪府大阪市中央区北浜東1-12 千歳第一ビル4階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
大阪市北区豊崎3-20-9 三栄ビル7階 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟 鑑定 コンサルティング