ホーム > 特許ランキング > 信越化学工業株式会社 > 2011年 > 出願公開一覧
信越化学工業株式会社
※ ログインすれば出願人(信越化学工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2011年 出願公開件数ランキング 第107位 416件
（
2010年：第112位 429件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第67位 474件
（2010年：第72位 394件）
（ランキング更新日：2025年2月18日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
信越化学工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2011-174972 | 封止材パターンの形成方法 | 2011年 9月 8日 | |
| 特開 2011-168409 | 合成石英ガラス部材の製造方法 | 2011年 9月 1日 | |
| 特開 2011-170316 | パターン形成方法 | 2011年 9月 1日 | |
| 特開 2011-168634 | エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | 2011年 9月 1日 | |
| 特開 2011-168768 | 付加硬化型フルオロポリエーテル系接着剤組成物 | 2011年 9月 1日 | |
| 特開 2011-162430 | セラミックス成形用水溶性バインダー及びこれを用いたセラミックス成形用組成物 | 2011年 8月25日 | |
| 特開 2011-162500 | 環状シラザン化合物の製造方法 | 2011年 8月25日 | |
| 特開 2011-162497 | 環状シラザン化合物及びその製造方法 | 2011年 8月25日 | |
| 特開 2011-162496 | シリル基で保護されたアミノ基を有する有機ケイ素化合物及びその製造方法 | 2011年 8月25日 | |
| 特開 2011-164584 | ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2011年 8月25日 | |
| 特開 2011-164345 | レジスト下層膜材料、パターン形成方法 | 2011年 8月25日 | |
| 特開 2011-162768 | 高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 | 2011年 8月25日 | |
| 特開 2011-164402 | ペリクルの製造方法 | 2011年 8月25日 | |
| 特開 2011-164259 | リソグラフィー用ペリクル | 2011年 8月25日 | |
| 特開 2011-166021 | 太陽電池の製造方法及び太陽電池 | 2011年 8月25日 |
416 件中 136-150 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2011-174972 2011-168409 2011-170316 2011-168634 2011-168768 2011-162430 2011-162500 2011-162497 2011-162496 2011-164584 2011-164345 2011-162768 2011-164402 2011-164259 2011-166021
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。信越化学工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
2月18日(火) -
2月19日(水) - 東京 港区
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月20日(木) - 東京 港区
2月20日(木) -
2月20日(木) -
2月20日(木) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 －自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法－ ＜東京会場受講（対面）／Zoomオンライン受講 選択可＞ ＜見逃し視聴選択可＞
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月18日(火) -
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
福岡市博多区博多駅前3丁目25番21号 博多駅前ビジネスセンター411号 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒330-0846 埼玉県さいたま市大宮区大門町3-205 ＡＢＣビル401 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
名古屋本部オフィス 〒450-0002 愛知県名古屋市中村区名駅3-13-24 第一はせ川ビル6F http://aigipat.com/ 岐阜オフィス 〒509-0124 岐阜県各務原市鵜沼山崎町3丁目146番地1 PACビル2階（旧横山ビル） http://gifu.aigipat.com/ 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
