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信越化学工業株式会社

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  2011年 出願公開件数ランキング    第107位 416件 上昇2010年:第112位 429件)

  2011年 特許取得件数ランキング    第67位 474件 上昇2010年:第72位 394件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2011-162768 高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 2011年 8月25日
特開 2011-164402 ペリクルの製造方法 2011年 8月25日
特開 2011-164259 リソグラフィー用ペリクル 2011年 8月25日
特開 2011-164255 リソグラフィー用ペリクル 2011年 8月25日
特開 2011-166021 太陽電池の製造方法及び太陽電池 2011年 8月25日
特開 2011-165886 レジスト塗布装置及びレジスト塗布方法 2011年 8月25日
特開 2011-156655 磁石固定治具、希土類磁石切断加工装置及び切断加工方法 2011年 8月18日
特開 2011-156863 磁石固定治具及び希土類磁石切断加工装置 2011年 8月18日
特開 2011-158585 ペリクルおよびペリクルの製造方法 2011年 8月18日
特開 2011-157313 新規スルホニウム塩、高分子化合物、高分子化合物の製造方法、レジスト材料及びパターン形成方法 2011年 8月18日
特開 2011-158891 ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 2011年 8月18日
特開 2011-158814 ペリクル膜の製造方法および装置 2011年 8月18日
特開 2011-154059 ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 2011年 8月11日
特開 2011-150023 レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜形成方法、及びパターン形成方法 2011年 8月 4日
特開 2011-151125 ダイシング・ダイアタッチフィルム、半導体装置、及びダイシング・ダイアタッチ方法 2011年 8月 4日

416 件中 151-165 件を表示

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2011-162768 2011-164402 2011-164259 2011-164255 2011-166021 2011-165886 2011-156655 2011-156863 2011-158585 2011-157313 2011-158891 2011-158814 2011-154059 2011-150023 2011-151125

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