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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第107位 416件 (2010年:第112位 429件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第67位 474件 (2010年:第72位 394件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2011-162768 | 高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 | 2011年 8月25日 | |
特開 2011-164402 | ペリクルの製造方法 | 2011年 8月25日 | |
特開 2011-164259 | リソグラフィー用ペリクル | 2011年 8月25日 | |
特開 2011-164255 | リソグラフィー用ペリクル | 2011年 8月25日 | |
特開 2011-166021 | 太陽電池の製造方法及び太陽電池 | 2011年 8月25日 | |
特開 2011-165886 | レジスト塗布装置及びレジスト塗布方法 | 2011年 8月25日 | |
特開 2011-156655 | 磁石固定治具、希土類磁石切断加工装置及び切断加工方法 | 2011年 8月18日 | |
特開 2011-156863 | 磁石固定治具及び希土類磁石切断加工装置 | 2011年 8月18日 | |
特開 2011-158585 | ペリクルおよびペリクルの製造方法 | 2011年 8月18日 | |
特開 2011-157313 | 新規スルホニウム塩、高分子化合物、高分子化合物の製造方法、レジスト材料及びパターン形成方法 | 2011年 8月18日 | |
特開 2011-158891 | ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 | 2011年 8月18日 | |
特開 2011-158814 | ペリクル膜の製造方法および装置 | 2011年 8月18日 | |
特開 2011-154059 | ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 | 2011年 8月11日 | |
特開 2011-150023 | レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜形成方法、及びパターン形成方法 | 2011年 8月 4日 | |
特開 2011-151125 | ダイシング・ダイアタッチフィルム、半導体装置、及びダイシング・ダイアタッチ方法 | 2011年 8月 4日 |
416 件中 151-165 件を表示
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2011-162768 2011-164402 2011-164259 2011-164255 2011-166021 2011-165886 2011-156655 2011-156863 2011-158585 2011-157313 2011-158891 2011-158814 2011-154059 2011-150023 2011-151125
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12月2日(月) - 滋賀 草津市
新製品開発の「タネ」がみつかる!株式会社リコーによるシーズ発表会 ~リコーの技術(シーズ)やアイデアを使って新製品をつくりませんか?~
12月2日(月) -
12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月4日(水) -
12月4日(水) -
12月5日(木) - 東京 港区
12月5日(木) -
12月5日(木) -
12月5日(木) - 大阪 大阪市
【特別講演】第8回 前コミュ 生成AIでビジネスチャンスをつかむ前に、生成AI導入に待ち構える法的ハードルを越える方法 ~ つながりを育む出会いの場(知財ネットワーク交流会)~
12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
新製品開発の「タネ」がみつかる!株式会社リコーによるシーズ発表会 ~リコーの技術(シーズ)やアイデアを使って新製品をつくりませんか?~
12月10日(火) - 東京 港区
12月10日(火) -
12月10日(火) - 東京 港区
12月11日(水) - 東京 港区
12月11日(水) -
12月11日(水) -
12月11日(水) -
12月11日(水) -
12月11日(水) -
12月12日(木) -
12月12日(木) - 東京 港区
12月12日(木) - 東京 品川
ビジネスの実務で役立つ技術契約の基礎知識と実例 ~秘密保持契約、共同研究開発、共同出願契約、製造委託契約、特許ライセンス契約~
12月12日(木) - 東京 千代田
12月12日(木) -
12月12日(木) -
12月13日(金) - 東京 23区
12月13日(金) - 東京 品川
12月13日(金) -
12月13日(金) -
12月14日(土) -
12月10日(火) - 東京 港区
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