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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第107位 416件 (2010年:第112位 429件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第67位 474件 (2010年:第72位 394件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2011-150103 | ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 | 2011年 8月 4日 | |
特開 2011-148981 | シリコーン樹脂組成物及びその硬化物 | 2011年 8月 4日 | |
特開 2011-151125 | ダイシング・ダイアタッチフィルム、半導体装置、及びダイシング・ダイアタッチ方法 | 2011年 8月 4日 | |
特開 2011-150208 | 光アイソレータ | 2011年 8月 4日 | |
特開 2011-144114 | クワシロカイガラムシの性誘引剤及び誘引方法 | 2011年 7月28日 | |
特開 2011-144350 | 高い熱ゲル強度を有するヒドロキシプロピルメチルセルロース及びその製造方法並びにこれを含む食品 | 2011年 7月28日 | |
特開 2011-145664 | 光硬化性ドライフィルム、その製造方法、パターン形成方法及び電気・電子部品保護用皮膜 | 2011年 7月28日 | |
特開 2011-144360 | 光半導体素子封止用樹脂組成物及び当該組成物で封止した光半導体装置 | 2011年 7月28日 | |
特開 2011-146494 | 電解コンデンサ用封口体 | 2011年 7月28日 | |
再表 2009-123261 | SOI基板の製造方法 | 2011年 7月28日 | |
特開 2011-142021 | 非水電解質二次電池負極材用珪素酸化物及び非水電解質二次電池負極材用珪素酸化物の製造方法並びにリチウムイオン二次電池及び電気化学キャパシタ | 2011年 7月21日 | |
特開 2011-141536 | フォトマスク用ガラス基板及びその製造方法 | 2011年 7月21日 | |
特開 2011-141471 | ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 | 2011年 7月21日 | |
特開 2011-140550 | 光学素子ケース成形用付加硬化型シリコーン樹脂組成物及び光半導体装置 | 2011年 7月21日 | |
再表 2009-116664 | SOIウェーハの製造方法 | 2011年 7月21日 |
416 件中 166-180 件を表示
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2011-150103 2011-148981 2011-151125 2011-150208 2011-144114 2011-144350 2011-145664 2011-144360 2011-146494 2009-123261 2011-142021 2011-141536 2011-141471 2011-140550 2009-116664
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11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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