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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第95位 489件
(2012年:第106位 436件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第86位 460件
(2012年:第108位 382件)
(ランキング更新日:2025年2月28日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2013-168657 | 太陽電池モジュール表面保護用透明積層フィルム及び太陽電池モジュール | 2013年 8月29日 | |
特開 2013-166667 | 粉体用流動化剤及びその製造方法 | 2013年 8月29日 | |
特開 2013-166716 | パーフルオロアルキレン基含有オルガノポリシロキサン、表面処理剤組成物及び該表面処理剤組成物で処理された物品 | 2013年 8月29日 | |
特開 2013-167669 | ケイ素含有表面改質剤、これを含むレジスト下層膜形成用組成物、及びパターン形成方法 | 2013年 8月29日 | |
特開 2013-166812 | ケイ素含有表面改質剤、これを含むレジスト下層膜形成用組成物、及びパターン形成方法 | 2013年 8月29日 | |
特開 2013-167795 | ペリクルの製造方法 | 2013年 8月29日 | |
特開 2013-168409 | 光学半導体装置用パッケージとその製造方法、並びに光学半導体装置 | 2013年 8月29日 | |
特開 2013-163622 | 会合シリカの製造方法 | 2013年 8月22日 | 共同出願 |
特開 2013-165160 | 太陽電池の製造方法及び太陽電池 | 2013年 8月22日 | |
特開 2013-164588 | 化学増幅ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2013年 8月22日 | 共同出願 |
特開 2013-163604 | 多孔質ガラス母材の焼結方法 | 2013年 8月22日 | |
特開 2013-163652 | 単量体、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 | 2013年 8月22日 | |
特開 2013-163861 | 軽希土類元素の抽出・分離方法 | 2013年 8月22日 | |
特開 2013-165102 | EUV用ペリクル | 2013年 8月22日 | |
特開 2013-164543 | フォトマスクブランクの洗浄耐性評価方法、およびフォトマスクブランクの製造方法 | 2013年 8月22日 |
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2013-168657 2013-166667 2013-166716 2013-167669 2013-166812 2013-167795 2013-168409 2013-163622 2013-165160 2013-164588 2013-163604 2013-163652 2013-163861 2013-165102 2013-164543
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特許制度に詳しい方にこそ知って欲しい意匠権の使い方 ~コスパの高い意匠権を使って事業を守る方法を、特許権と比較して解説~
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