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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第107位 416件 (2010年:第112位 429件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第67位 474件 (2010年:第72位 394件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
再表 2009-116664 | SOIウェーハの製造方法 | 2011年 7月21日 | |
特開 2011-138102 | ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-137016 | 含窒素有機化合物 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-137182 | 硬化性パーフルオロポリエーテル組成物、その硬化物を用いたゴム及びゲル製品 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-136879 | 可視光応答型酸化チタン系微粒子分散液およびその製造方法 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-136297 | 可視光応答型酸化チタン系微粒子分散液およびその製造方法 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-136388 | 合成石英ガラス基板の製造方法 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-138857 | 放熱性及びリワーク性に優れる電子装置の製造方法及び電子装置 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-138111 | 化学増幅レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-138107 | ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-139089 | 半導体基板の製造方法 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-138932 | 応力を低減したSOS基板 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-138922 | 太陽電池及び太陽電池製造用スクリーン製版 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-132165 | シラノール基含有オレフィン化合物の製造方法 | 2011年 7月 7日 | |
特開 2011-132164 | 固体材料の表面処理方法 | 2011年 7月 7日 |
416 件中 181-195 件を表示
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2009-116664 2011-138102 2011-137016 2011-137182 2011-136879 2011-136297 2011-136388 2011-138857 2011-138111 2011-138107 2011-139089 2011-138932 2011-138922 2011-132165 2011-132164
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12月2日(月) - 滋賀 草津市
新製品開発の「タネ」がみつかる!株式会社リコーによるシーズ発表会 ~リコーの技術(シーズ)やアイデアを使って新製品をつくりませんか?~
12月2日(月) -
12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月4日(水) -
12月4日(水) -
12月5日(木) - 東京 港区
12月5日(木) -
12月5日(木) -
12月5日(木) - 大阪 大阪市
【特別講演】第8回 前コミュ 生成AIでビジネスチャンスをつかむ前に、生成AI導入に待ち構える法的ハードルを越える方法 ~ つながりを育む出会いの場(知財ネットワーク交流会)~
12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
新製品開発の「タネ」がみつかる!株式会社リコーによるシーズ発表会 ~リコーの技術(シーズ)やアイデアを使って新製品をつくりませんか?~
12月10日(火) - 東京 港区
12月10日(火) -
12月10日(火) - 東京 港区
12月11日(水) - 東京 港区
12月11日(水) -
12月11日(水) -
12月11日(水) -
12月11日(水) -
12月11日(水) -
12月12日(木) -
12月12日(木) - 東京 港区
12月12日(木) - 東京 品川
ビジネスの実務で役立つ技術契約の基礎知識と実例 ~秘密保持契約、共同研究開発、共同出願契約、製造委託契約、特許ライセンス契約~
12月12日(木) - 東京 千代田
12月12日(木) -
12月12日(木) -
12月13日(金) - 東京 23区
12月13日(金) - 東京 品川
12月13日(金) -
12月13日(金) -
12月14日(土) -
12月10日(火) - 東京 港区
特許業務法人 藤本パートナーズ 株式会社ネットス 株式会社パトラ
大阪オフィス:大阪市中央区南船場1-15-14 堺筋稲畑ビル2F 5F 東京オフィス:東京都千代田区平河町1-1-8 麹町市原ビル3F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
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