特許ランキング - 出願人詳細情報 -

信越化学工業株式会社

※ ログインすれば出願人(信越化学工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2011年出願公開件数ランキング　　　第107位　416件（2010年：第112位　429件）

　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第67位　474件（2010年：第72位　394件）

（ランキング更新日：2024年11月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

信越化学工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
再表 2009-116664	ＳＯＩウェーハの製造方法	2011年 7月21日
特開 2011-138102	ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法	2011年 7月14日
特開 2011-137016	含窒素有機化合物	2011年 7月14日
特開 2011-137182	硬化性パーフルオロポリエーテル組成物、その硬化物を用いたゴム及びゲル製品	2011年 7月14日
特開 2011-136879	可視光応答型酸化チタン系微粒子分散液およびその製造方法	2011年 7月14日
特開 2011-136297	可視光応答型酸化チタン系微粒子分散液およびその製造方法	2011年 7月14日
特開 2011-136388	合成石英ガラス基板の製造方法	2011年 7月14日
特開 2011-138857	放熱性及びリワーク性に優れる電子装置の製造方法及び電子装置	2011年 7月14日
特開 2011-138111	化学増幅レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法	2011年 7月14日
特開 2011-138107	ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法	2011年 7月14日
特開 2011-139089	半導体基板の製造方法	2011年 7月14日
特開 2011-138932	応力を低減したＳＯＳ基板	2011年 7月14日
特開 2011-138922	太陽電池及び太陽電池製造用スクリーン製版	2011年 7月14日
特開 2011-132165	シラノール基含有オレフィン化合物の製造方法	2011年 7月 7日
特開 2011-132164	固体材料の表面処理方法	2011年 7月 7日

416 件中 181-195 件を表示

... 13

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2009-116664 2011-138102 2011-137016 2011-137182 2011-136879 2011-136297 2011-136388 2011-138857 2011-138111 2011-138107 2011-139089 2011-138932 2011-138922 2011-132165 2011-132164

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。信越化学工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数