特許ランキング - 出願人詳細情報 -

信越化学工業株式会社

※ ログインすれば出願人(信越化学工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2011年出願公開件数ランキング　　　第107位　416件（2010年：第112位　429件）

　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第67位　474件（2010年：第72位　394件）

（ランキング更新日：2025年2月28日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

信越化学工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2011-78268	ＩＰＭ型永久磁石回転機用回転子の組立方法	2011年 4月14日
特開 2011-76788	非水電解質二次電池用負極材の製造方法並びにリチウムイオン二次電池及び電気化学キャパシタ	2011年 4月14日
特開 2011-67839	珪素鋳造用離型剤の調製方法及び珪素鋳造用鋳型の製造方法	2011年 4月 7日
特開 2011-68777	ω末端にポリアルキレンオキシド基を有する片末端反応性オルガノポリシロキサン及びその製造方法。	2011年 4月 7日
特開 2011-68724	光拡散性シリコーンゴム組成物及び成型物	2011年 4月 7日
特開 2011-71838	弾性表面波素子	2011年 4月 7日
特開 2011-63471	多結晶シリコン塊および多結晶シリコン塊の製造方法	2011年 3月31日
特開 2011-63686	光半導体素子封止用組成物	2011年 3月31日
特開 2011-63664	アンダーフィル材組成物及び光半導体装置	2011年 3月31日
特開 2011-63663	アンダーフィル材組成物及び光半導体装置	2011年 3月31日
特開 2011-65796	非水電解質二次電池用負極材の製造方法及び非水電解質二次電池	2011年 3月31日
特開 2011-57527	多結晶シリコン製造システム、多結晶シリコン製造装置および多結晶シリコンの製造方法	2011年 3月24日
特開 2011-57526	多結晶シリコン製造用反応炉、多結晶シリコン製造システム、および多結晶シリコンの製造方法	2011年 3月24日
特開 2011-57809	室温硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物及びその硬化物	2011年 3月24日
特開 2011-57755	シリコーン組成物及びその硬化物	2011年 3月24日

416 件中 301-315 件を表示

... 21

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2011-78268 2011-76788 2011-67839 2011-68777 2011-68724 2011-71838 2011-63471 2011-63686 2011-63664 2011-63663 2011-65796 2011-57527 2011-57526 2011-57809 2011-57755

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。信越化学工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数