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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第107位 416件
(2010年:第112位 429件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第67位 474件
(2010年:第72位 394件)
(ランキング更新日:2025年5月23日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2011-119 | 包餡食品用中種の製造方法とそれを含む食品 | 2011年 1月 6日 | |
特開 2011-1332 | 複合粒子及びその製造方法、ならびに化粧料 | 2011年 1月 6日 | |
特開 2011-1437 | パーフルオロポリエーテル変性ポリシロキサン及びその製造方法 | 2011年 1月 6日 | |
特開 2011-1542 | スピロ環構造を有する酸脱離性エステル型単量体、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 | 2011年 1月 6日 | |
特開 2011-1419 | アミノ変性シリコーンマイクロエマルジョン調製用組成物、アミノ変性シリコーンマイクロエマルジョンの製造方法およびアミノ変性シリコーンマイクロエマルジョン | 2011年 1月 6日 | |
特開 2011-1412 | フリップチップ型半導体装置用シリコーンアンダーフィル材およびそれを使用するフリップチップ型半導体装置 | 2011年 1月 6日 | |
特開 2011-1448 | 付加反応硬化型シリコーン粘着剤組成物および粘着テープ | 2011年 1月 6日 | |
特開 2011-1415 | 水系塗料組成物及びその発色安定化方法 | 2011年 1月 6日 | |
特開 2011-2680 | ペリクル | 2011年 1月 6日 | |
特開 2011-2639 | サセプタおよびこれを用いた閃光照射方法ならびにフォトマスクブランクの製造方法 | 2011年 1月 6日 | |
特開 2011-3771 | 半導体基板拡散炉 | 2011年 1月 6日 |
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2011-119 2011-1332 2011-1437 2011-1542 2011-1419 2011-1412 2011-1448 2011-1415 2011-2680 2011-2639 2011-3771
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5月29日(木) - 東京 品川区
5月29日(木) - 東京 新宿区
5月29日(木) -
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5月30日(金) -
5月30日(金) -
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月5日(木) -
6月6日(金) -
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