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信越化学工業株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第95位 489件
（
2012年：第106位 436件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第86位 460件
（2012年：第108位 382件）
（ランキング更新日：2025年6月3日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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信越化学工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5298501 | 透明材料用含フッ素硬化性組成物 | 2013年 9月25日 | |
| 特許 5296412 | 離型用シリコーンエマルジョン組成物及びそれを用いてなる離型性基体 | 2013年 9月25日 | |
| 特許 5298913 | 接着剤組成物およびそれを用いた半導体ウエハ用保護シート | 2013年 9月25日 | |
| 特許 5297219 | 単結晶薄膜を有する基板の製造方法 | 2013年 9月25日 | |
| 特許 5294537 | トリ（第２級アルキル）シラン化合物の製造方法 | 2013年 9月18日 | |
| 特許 5294610 | 光導波板用シリコーンゴム組成物、光導波板及びその製造方法 | 2013年 9月18日 | |
| 特許 5294414 | オルガノポリシルメチレン組成物及びその硬化物 | 2013年 9月18日 | |
| 特許 5290945 | 標準粒子付着ペリクルの作製方法 | 2013年 9月18日 | |
| 特許 5293525 | 光半導体素子封止用組成物 | 2013年 9月18日 | |
| 特許 5292938 | 有機樹脂粉体塗料組成物 | 2013年 9月18日 | |
| 特許 5290947 | ポジ型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 | 2013年 9月18日 | |
| 特許 5290129 | 化学増幅ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2013年 9月18日 | |
| 特許 5288872 | 加熱硬化型シリコーン組成物 | 2013年 9月11日 | |
| 特許 5287552 | 光酸発生剤並びにレジスト材料及びパターン形成方法 | 2013年 9月11日 | |
| 特許 5285185 | フォトマスクユニット及びその製造方法 | 2013年 9月11日 |
460 件中 151-165 件を表示
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5298501 5296412 5298913 5297219 5294537 5294610 5294414 5290945 5293525 5292938 5290947 5290129 5288872 5287552 5285185
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