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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第95位 489件
(2012年:第106位 436件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第86位 460件
(2012年:第108位 382件)
(ランキング更新日:2025年6月4日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5272866 | 熱圧着用シリコーンゴムシート | 2013年 8月28日 | |
特許 5273131 | SiC単結晶の製造方法 | 2013年 8月28日 | |
特許 5273130 | SiC単結晶の製造方法 | 2013年 8月28日 | |
特許 5276640 | 1μm帯光アイソレータ | 2013年 8月28日 | |
特許 5274859 | 貼り合わせ基板の製造方法 | 2013年 8月28日 | |
特許 5272538 | 固体高分子型燃料電池セパレータ用接着性シール組成物、セパレータシール及びセパレータ | 2013年 8月28日 | |
特許 5272492 | 非水電解質二次電池用負極材及びその製造方法、ならびに非水電解質二次電池用負極及び非水電解質二次電池 | 2013年 8月28日 | |
特許 5267308 | 光応答性に優れる光触媒薄膜を与える光触媒塗工液及び該光触媒薄膜 | 2013年 8月21日 | |
特許 5267488 | ポリカーボネート樹脂積層体 | 2013年 8月21日 | |
特許 5270647 | スパッタリング成膜用珪素ターゲットおよび珪素含有薄膜の成膜方法 | 2013年 8月21日 | |
特許 5270465 | サセプタおよびこれを用いた閃光照射方法ならびにフォトマスクブランクの製造方法 | 2013年 8月21日 | |
特許 5266299 | レジスト下層膜材料及びこれを用いたパターン形成方法 | 2013年 8月21日 | |
特許 5266294 | レジスト下層膜材料及びこれを用いたパターン形成方法 | 2013年 8月21日 | |
特許 5264543 | 光ファイバ用母材の製造方法 | 2013年 8月14日 | |
特許 5262672 | 液晶素子用感圧接着剤組成物 | 2013年 8月14日 |
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5272866 5273131 5273130 5276640 5274859 5272538 5272492 5267308 5267488 5270647 5270465 5266299 5266294 5264543 5262672
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