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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第106位 436件
(2011年:第107位 416件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第108位 382件
(2011年:第67位 474件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 4976216 | オルガノポリシロキサン粉体処理剤、該処理剤で処理された粉体、及び該粉体を含む化粧料 | 2012年 7月18日 | |
特許 4978222 | 硝酸性窒素を含む排水の処理方法 | 2012年 7月18日 | |
特許 4979088 | 半導体リソグラフィー用ペリクル | 2012年 7月18日 | |
特許 4978748 | エッチング方法 | 2012年 7月18日 | |
特許 4977794 | パターン転写方法およびフォトマスク | 2012年 7月18日 | |
特許 4977535 | パターン転写方法 | 2012年 7月18日 | |
特許 4979732 | 貼り合わせウェーハの製造方法 | 2012年 7月18日 | |
特許 4973877 | 金属表面処理剤、表面処理鋼材及びその処理方法、並びに塗装鋼材及びその製造方法 | 2012年 7月11日 | |
特許 4974389 | リソグラフィ用ペリクルフレーム及びリソグラフィ用ペリクル | 2012年 7月11日 | |
特許 4973875 | フォトマスク用合成石英ガラス基板保管ケース | 2012年 7月11日 | |
特許 4975266 | 光ファイバの製造方法 | 2012年 7月11日 | |
特許 4974208 | 室温硬化性含フッ素組成物 | 2012年 7月11日 | |
特許 4973845 | ローラ用付加硬化型液状導電性シリコーンゴム組成物及び現像ローラ | 2012年 7月11日 | |
特許 4975514 | ダイボンド剤及びこれを用いてなる半導体装置 | 2012年 7月11日 | |
特許 4973876 | パターン形成方法及びこれに用いるパターン表面コート材 | 2012年 7月11日 |
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4976216 4978222 4979088 4978748 4977794 4977535 4979732 4973877 4974389 4973875 4975266 4974208 4973845 4975514 4973876
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