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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第113位 412件
(2013年:第95位 489件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第66位 549件
(2013年:第86位 460件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5440381 | 両末端にシラノール基を有する低分子量直鎖状オルガノポリシロキサンの製造方法 | 2014年 3月12日 | |
特許 5440275 | トリメチルインジウムの精製方法 | 2014年 3月12日 | |
特許 5442576 | 保護ポリマーの脱保護方法 | 2014年 3月12日 | |
特許 5440515 | レジスト材料及びパターン形成方法 | 2014年 3月12日 | |
特許 5440468 | パターン形成方法 | 2014年 3月12日 | |
特許 5439030 | ネガ型レジスト組成物の検査方法及び調製方法 | 2014年 3月12日 | |
特許 5440433 | 太陽電池の製造方法及び製膜装置 | 2014年 3月12日 | |
特許 5440079 | アキシャルギャップ型永久磁石式回転機用回転子及びアキシャルギャップ型永久磁石式回転機 | 2014年 3月12日 | |
特許 5438910 | 貼り合わせ基板の製造方法 | 2014年 3月12日 | |
特許 5434776 | 光触媒塗工液及び塗膜 | 2014年 3月 5日 | |
特許 5431255 | 消泡剤 | 2014年 3月 5日 | |
特許 5434777 | 親水性膜形成用カゴ型シルセスキオキサン−ペルオキソチタン複合体水性塗工液及び塗膜 | 2014年 3月 5日 | |
特許 5434954 | 剥離紙又は剥離フィルム用下塗りシリコーン組成物、並びに処理紙又は処理フィルム | 2014年 3月 5日 | |
特許 5432855 | ペリクルの製造方法および装置 | 2014年 3月 5日 | |
特許 5434980 | 高分子化合物、化学増幅ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2014年 3月 5日 |
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5440381 5440275 5442576 5440515 5440468 5439030 5440433 5440079 5438910 5434776 5431255 5434777 5434954 5432855 5434980
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